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三星宣布已完成5纳米EUV工艺开发，准备向客户提供样品

发布于：2024-06-06 编辑：匿名来源：网络

4月16日消息，据外媒报道，全球领先的半导体科技公司三星电子今天宣布，其5纳米FinFET工艺技术已经开发出来。

现准备向客户提供样品。

通过在其基于极紫外 (EUV) 的工艺产品中添加另一个尖端节点，三星再次证明了其在先进制造市场的领导地位。

2020年10月，三星宣布其7纳米工艺芯片已准备就绪并开始生产。

这是三星首款采用EUV光刻技术的产品。

该公司提供了业界首批基于 EUV 的新型产品的商业样品，并于今年早些时候开始采用 7 纳米工艺进行批量生产。

此外，三星还正在与客户合作开发6纳米芯片。

与 7nm 相比，三星的 5nm FinFET 工艺技术可将逻辑区域效率提高高达 25%。

由于工艺改进，功耗降低了20%，性能提高了10%，让三星拥有了更具创新性的标准单元架构。

5nm 的另一个关键优势是 7nm 的所有相关知识产权都可以在 5nm 工艺上重复使用。

因此，过渡到 5nm 的 7nm 客户将能够显着降低迁移成本，并拥有预先验证的设计生态系统，从而缩短其 5nm 产品的开发周期。

得益于三星代工与其三星先进代工生态系统（SAFE）合作伙伴的密切合作，自今年第四季度以来，三星的5nm产品拥有了强大的设计基础设施，包括工艺、设计工具、设计方法（DM）、电子设计自动化（ EDA）工具和IP。

此外，三星代工已开始向客户提供5纳米多项目晶圆（MPW）服务。

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