三星和SK海力士将在韩国建设4710亿美元芯片中心
06-06
1月19日，ASML公布年度财报：全年总营收1亿欧元（约合人民币1亿元），同比增长33%；净利润59亿欧元（约1亿元人民币），同比增长66%；毛利率为53%，较去年同期增长4个百分点。
ASML首席执行官Peter Wen表示，63亿欧元的收入来自42台EUV系统（极紫外光刻机）的订单，比上年增加了11台。
去年Q4，ASML实现营收50亿欧元，毛利率54.2%，净利润18亿欧元，新订单71亿欧元。
期内，公司共出货82台光刻系统，较上季度增加3台；其中EUV光刻系统11台，较上季度减少4台；在所有出货量中，73%的光刻机用于逻辑工艺制造，27%的光刻机用于存储芯片生产。
图片ASML 4Q21 财报。
从出货地点来看，中国台湾仍然是ASML最大的市场。
第四季度51%的光刻系统出货到那里，环比增长5%；韩国是该公司的第二大市场。
同期，27%的光刻系统运往当地，环比下降6%。
中国大陆是ASML的第三大市场。
第四季度，22%的光刻系统运往当地，占比增长12%。
21年第三季度，美国和日本分别占ASML出货量的10%和1%，但第四季度比例意外降至0。
具体原因尚不清楚。
图片ASML光刻机出货信息过去几年，ASML一直在开发高数值孔径（0.55NA）EUV光刻机。
这款EUV光刻机采用最新光学设计，分辨率更高（从13nm升级到8nm），可将芯片面积缩小1.7倍，晶体管密度提高2.9倍。
与目前的0.33NA EUV光刻机相比，0.55NA光刻机可以显着提高良率，降低成本并缩短生产周期。
当然，0.55NA光刻机的价格也相当昂贵。
每台售价约3亿美元（约合人民币19亿元），是0.33NA光刻机价格的两倍。
目前，台积电等生产7nm-5nm工艺芯片的公司均采用0.33NA的EUV光刻机，而第一代0.55NA的光刻机TWINSCAN EXE：仍在研发过程中，预计将于2020年推出。
今年，英特尔率先向ASML订购了第一代0.55NA EUV光刻机。
该公司也有望成为高数值孔径EUV光刻机的首个用户，并将其用于3nm及以下工艺。
ASML透露，于2021年第4季度获得TWINSCAN EXE：光刻机订单，使累计订单达到5台。
同时，今年年初，其收到了来自Intel的首个TWINSCAN EXE：光刻机订单。
TWINSCAN EXE：预计最快年底投入使用，2020年将广泛应用于2nm及以下先进工艺生产 图片ASML 展望一年，ASML预计第一季度销售收入约为3.3至35亿欧元，较上季度下降30%-34%。
Peter Wen解释说，由于大量快速出货，大约20亿欧元的预期收入将从第一季度转移到后续季度，这也是该公司第一季度预期销售额较低的原因。
纵观全年，即使考虑到当前6款EUV系统快速出货相关的营收将转移至2020年，该公司全年营收增速仍将在20%左右。
不过，这一说法遭到了陆总的质疑。
中国台湾半导体分析师行智：既然出货快，理论上也应该快速或者按时付款。
他进一步解释，4Q21 ASML存储芯片光刻机营收占比环比下滑12%，同期确认的EUV营收也低于原先预期。
这可能是由于韩国三星和海力士的DRAM（动态随机存取存储器）合同价格下降所致。
，请求延迟向 ASML 支付 EUV 费用。
版权声明：本文内容由互联网用户自发贡献，本站不拥有所有权，不承担相关法律责任。如果发现本站有涉嫌抄袭的内容，欢迎发送邮件 举报，并提供相关证据，一经查实，本站将立刻删除涉嫌侵权内容。
标签：
相关文章
06-18
最新文章
英特尔收购芯片制造商eASIC，进一步减少对CPU的依赖
西门子携手现代汽车、起亚公司，共同推动交通运输行业数字化转型
行业领导者制定 Open Eye MSA 来帮助实现高速光连接应用
三星电子和 NAVER 合作
意法半导体和 Leti 合作开发 GaN-on-Si 功率转换技术
青岛将大力发展高世代TFT-LCD和Micro LED项目
长电科技参加IMAPS器件封装大会
三星正式发布Exynos 990旗舰处理器