紫光展锐集团任命坂本幸雄为日本分公司高级副总裁兼首席执行官
06-08
3月17日，为期三天的年度全球半导体盛会SEMICON China在上海盛大开幕。
作为全球真空技术和泄漏检测解决方案供应商之一，普发真空在半导体等先进制造和科研领域的整体解决方案在展会上亮相。
半导体器件的生产离不开洁净的真空环境。
普发真空在展会上展示了ASM检漏仪、A多级罗茨泵、AL多级罗茨泵、HiPace涡轮分子泵等明星产品，并与全球半导体领域的朋友和媒体进行了深入交流。
，探讨普发真空如何助力中国半导体行业的未来发展。
普发真空总经理Julien Valentin表示：“尽管受到COVID-19疫情的影响，中国半导体行业仍然呈现出逆势增长的态势。
中国市场是普发真空增长战略的支柱之一，已成为普发真空的增长战略支柱之一。
”未来，我们将继续因地制宜，持续深耕中国市场，更好地服务本土客户，推动中国第三代半导体产业的发展。
环境要求极其苛刻，这些应用需要具有快速抽气时间和高灵敏度的真空仪器，除了干式非接触式前级真空泵和高真空之外，普发真空的 ASM 检漏仪还以其无与伦比的灵敏度和精度来满足这一需求。
所有检漏仪都配备的涡轮分子泵，它配备了额外的涡轮分子泵，可以缩短检漏时间，同时不影响尺寸和可操作性。
没有任何妥协。
独特的人体工学设计、强大的可操作性以及能够在各种测试场地甚至狭小空间使用的能力，使其成为洁净环境中各种部件泄漏测试的理想工具。
对于半导体晶圆、显示器和太阳能电池等要求苛刻的应用，普发真空展示了其多级罗茨泵。
抽速高达3m3/h，延长工艺寿命，降低能耗。
是目前市场上运维成本最低的产品之一。
此外，该系列泵配备了扩展的温度管理功能，扩大了工作温度范围并提高了过程可靠性。
高能效 多级罗茨泵，抽速高达 m3/h。
作为一款能够适应高通量应用和频繁抽空循环的全新 m3/h 级产品，A L 多级罗茨泵展现了普发真空在集成干泵市场的全球领先地位。
A L 泵对于半导体行业生产设施中的泵集成来说是革命性的——它基于干式多级罗茨泵技术，尽管尺寸较小，但仍可提供高抽速和短抽气时间。
如今，普发真空的 A 系列已安装在世界各地众多毫米半导体晶圆厂中。
此外，普发真空还重点展示了可用于腐蚀性气体环境的HiPace涡轮分子泵。
这种紧凑的高性能涡轮分子泵具有很高的性价比和安装角度的灵活性。
革命性的转子设计带来了更好的抽速、更好的前级泵兼容性和更大的气流。
小分子气体具有较高的压缩比。
紧凑型复合轴承 HiPace 涡轮分子泵。
普发真空非常重视半导体领域的业务发展。
2016年扩建的无锡新工厂新增了干泵生产、新型泄漏测试系统ATC生产以及泵站组装等业务能力。
在更好地服务中国本土客户需求的同时，也能促进公司在真空镀膜、半导体等市场的战略增长。
自 2000 年成立以来，普发真空不断树立真空技术的新标准，并帮助科学界和工业界从其不断发展的创新及其成功推向市场中受益。
未来，普发真空希望以创造最先进的真空技术解决方案为动力，以最高标准要求自己，持续创新，为中国客户提供更丰富的灵感和更多元化的产品组合。
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