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06-18
网易科技 三星宣布,其全新EUV(极紫外)半导体生产线(韩国华城工厂)已开始量产。
该生产线将为客户生产7nm或更小的工艺。
的芯片。

目前商用的7纳米和5纳米工艺技术分别是在2011年和2020年开发的。
韩国华城工厂新建的V1生产线是第一条专用于EUV光刻技术的生产线。
早在今年2月,该公司就开始建设V1生产线,目前已投资60亿美元。
加上S3生产线,其7纳米或更小芯片的产量预计将比去年增加两倍。
三星表示,该公司将采用7纳米及以下工艺节点生产芯片。
该公司还将采用 7 纳米和 6 纳米工艺生产移动芯片,并最终计划生产最先进的 3 纳米芯片。
今年5月,三星分享了其3nm工艺的工艺设计工具包。
EUV 工艺使用较短波长的紫外光在晶圆上绘制设计图案。
三星表示,与之前使用 ArF 激光器的光刻技术相比,该技术可以提供更精细、更好的设计。
近年来,三星与芯片代工龙头台积电(TSMC)展开激烈竞争,争夺高通、英伟达、苹果、AMD、华为海思等主要客户。
三星目前共有6条生产线专门用于芯片代工生产。
为了成为行业领导者,三星将在年前投资1亿美元用于代工芯片生产和处理器等逻辑芯片业务。
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