普洛斯ASP管理园发布首份可持续发展报告
06-17
雷锋网消息。
近日，外媒报道称，中国员工窃取了荷兰阿斯麦公司（ASML Holding N.V.）的商业机密，并泄露给中国政府。
ASML是中芯国际此前斥资1.2亿美元收购EUV光刻机的卖家，几乎占据了中芯国际全年净利润的全部。
“ASML中国员工窃取机密”事件也引起了半导体行业的广泛关注。
图片来自ASML官网。
盗窃秘密事件的回顾。
雷锋网获悉，该消息来自荷兰当地媒体（Financieele Dagblad）。
有媒体报道称，多名华人雇员窃取ASML美国子公司商业机密，导致ASML损失数亿美元。
相关报道指出，这些中国公民雇员是ASML研发部门的员工，拥有访问ASML美国圣何塞分公司内部网络的权限。
他们利用职务之便窃取设备的源代码、软件、公司定价策略和信息供内部使用。
设备手册并将信息传递给ASML的竞争对手XTAL公司。
那么，XTAL真的窃取了ASML的商业机密吗？至少从法院的判决来看，确实是这样。
2019年11月，ASML将XTAL告上法庭，罪名是“盗用商业机密”。
法院正式裁定XTAL必须向ASML支付2.33亿美元赔偿金。
然而一个月后，XTAL的公司申请破产。
XTAL创立于美国硅谷。
虽然比ASML成立晚了十几年，但由于ASML的市场主导地位，客户仍然希望几家公司同时竞争。
例如，三星是XTAL的客户。
但很明显，XTAL未能突破ASML的技术和商业壁垒。
4月11日，在外交部发言人陆康主持的例行记者会上，有记者问：“荷兰某财经媒体报道称，荷兰半导体行业ASML中方高管窃取公司商业机密，造成公司巨额损失。
” ”。
他说这些技术被泄露给了中国政府。
中方是否知道此事？陆康回复：我们注意到有关报道，但不了解你提到的具体情况。
事实上，中荷两国在科技领域一直保持着良好的合作。
我们已多次重申，中国政府高度重视知识产权保护，一直要求海外的中国公民和企业遵守所在国的法律，中国的科技发展不是靠偷窃、抢夺的。
ASML总裁的声音是中国人民用自己的智慧和汗水努力的结果，涉及芯片和大国关系等敏感话题，ASML总裁和CEO Peter Wennink也立即做出了回应，表示自己已成为受害者。
“中国间谍活动”。
“说我们在某种程度上是国家阴谋的受害者的说法是错误的。
事实是，我们被硅谷的一小群违法员工‘抢劫’了，他们为了‘致富’而违法。
所有这一切都发生在一个几年。
”我们自己发现了这一点，并在 2019 年 11 月胜诉后立即在公共法院提起法律诉讼，此前有几份报告指出了这一点。
ASML官方表示，各国籍员工窃取的掩模优化软件是ASML产品和服务组合的一小部分，目的是创建竞争产品并将其出售给韩国现有的ASML客户（应该是三星），还有一些XTAL的资金来自韩国。
目前尚不清楚2.33亿美元的损失中有多少可以从现已破产的XTAL公司追回。
“我们对任何认为这一事件对 ASML 在中国的业务产生任何影响的说法感到不满。
其中一些人碰巧是中国公民，但也有来自其他国家的人参与其中。
我们确实非常注意保护我们的专有知识，并且非常保护我们的专有知识。
”信息安全。
”非常敏感。
我们相信我们能够服务包括中国客户在内的所有客户，并帮助他们建立业务。
欧盟和中国最近的建设性谈判和协议促使中国加强了对非中国企业知识产权的尊重和保护。
“包括有效的执法行动，当我们看到这些在中国的法律和审判中得到实现时，我们感到受到鼓舞。
”温宁说。
ASML官网信息显示，ASML在16个国家的60多个城市设有办事处，总部位于维尔德霍芬，荷兰，而且员工还超过0人，难道就一定是ASML吗？“产量决定消费”，ASML在半导体行业的地位是不可替代的，连Intel、三星、台积电都只能等ASML来供货。
进展缓慢，三大厂商投入数十亿美元帮助ASML开发EUV光刻工艺和18英寸晶圆，可见光刻机的门槛之高（雷摘自ASML官网）顾名思义，光刻机是利用光来雕刻电路的光刻机（Mask Aligner）又称为掩模对准曝光机、曝光系统、光刻系统等，常用的光刻机。
采用掩模对准光刻技术，因此称为掩模对准系统。
一般的光刻工艺包括硅片表面清洗干燥、底漆、旋涂光刻胶、软烤、对准曝光、后烤、显影、硬烤、刻蚀等工序。
光刻是指使用光来制作图案（过程）。
集成电路的生产可以简单地分为三个步骤：使用模板去除晶圆表面的保护膜。
将晶圆浸泡在腐蚀剂中，将失去保护膜的部分蚀刻掉，形成电路。
用纯净水清洗掉晶圆表面残留的杂质。
此过程类似于照片打印。
光线穿过镜头，将场景的图像聚焦在胶片上。
胶片上的感光剂会随着光线的变化而变化。
胶片上变化的感光剂经显影剂显影、定影，形成与景物相反或互补的颜色。
记忆。
光刻集成电路的载体成为晶圆，成像成为电路。
芯片被誉为工业石油，光刻机被誉为半导体行业的明珠。
目前，ASML在行业中占据绝对主导地位。
一方面，其高端技术无与伦比。
另一方面，它的市场份额非常高，落后于其他公司。
尼康和佳能的最新技术相差一两代。
2018年全球光刻机出货总量中，ASML出货量占据了68%的市场份额。
在更高端的EUV光刻机方面，ASML拥有%的市场份额。
东西很稀有而且很贵。
2018年单台ASML EUV机均价超过1亿欧元，今年一季度价格接近1.2亿欧元。
但仍有价格无市场，EUV光刻机产能有限。
EUV是指波长为13.5nm的极紫外光。
普通的 DUV 光刻机使用 nm 深紫外光。
EUV光刻机可以大幅提升半导体工艺水平，实现7nm及以下工艺。
更重要的是，这是摩尔定律在半导体领域延续的基础。
目前，摩尔定律并不是芯片设计的问题，而纯粹是材料技术不合格的问题。
ASML可以提供更精良的设备，几乎处于行业顶端。
按照英特尔的计划，EUV光刻机最早应该在2018年投入使用，但这显然低估了材料科学的难度。
EUV波长仅为13纳米，光能量和破坏力极高。
过程中的所有零件和材料，千方百计挑战技术极限，机械运动误差以皮秒（万亿分之一秒）为单位进行测量。
对于志在发展国产半导体产业的我国来说，光刻机也是必备的突破口。
年底，国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”29日通过验收。
该光刻机由中国科学院光电技术研究所研制，光刻分辨率达到22纳米。
与双重曝光技术结合，未来还可以用于制造10纳米级别的芯片。
相关文章：国产SP光刻机哪里那么好？芯片进口总额超1亿美元。
中国要在芯片、AI芯片上做强，还缺什么？挑战英特尔、英伟达，高通发布Cloud AI边缘推理芯片。
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