EVG是MEMS、纳米技术和半导体市场晶圆键合和光刻设备的知名制造商,而Inkron(长濑集团)专注于高折射率和低折射率涂层材料。
在EVG的NIL Photonics?技术加工中心,双方合作开发和生产高质量的衍射光学元件(DOE)结构,为客户提供优化的工艺技术和高折射材料。
这些 DOE 结构用于增强现实/混合现实/虚拟现实 (AR/MR/VR) 的波导器件,以及分束器和光束扩散器等先进光学传感组件。
NIL光子技术处理中心为NIL供应链中的客户和合作伙伴提供开放的创新平台,目标是缩短创新光子元件及其应用的开发周期和产品上市时间。
作为协议的一部分,Inkron 为其自己的研发设施购买了 EVG NIL 系统,以加速新型光学材料的开发和验证。
EVG 系统利用创新的 SmartNIL? 技术和材料经验,能够在大面积压印板上批量生产微米级和纳米级结构(低至 30 纳米)。
材料特性对封装光学元件的整体性能和波形因数有重大影响。

例如,更高的折射率(RI≥1.9或以上)可以优化光提取效率,从而显着改善光管的可见视场,为AR/VR耳机提供更真实的体验。
高折射材料还具有更高的光学密度,使衍射光学能够更有效地用于分光系统,该系统用于面部识别传感器和其他系统;因此,未来的光学元件可以变得更小。
高折射率材料的进一步优化可以提高薄膜透明度并减少雾度和散射,提供更好的对比度。
优化的高折射率材料保证了NIL工艺的顺利量产。
NIL 是一种经过验证的光学元件制造方法,因为它可以经济地批量提供纳米级特征图案,并且不限于特定的尺寸、形状和复杂性。
此外,NIL系统构成EVG WLO制造解决方案的关键组成部分,使大量新型光传感器能够应用于移动消费电子产品,包括3D传感、生物识别、虹膜扫描、光学指纹、红外热成像、激光雷达(激光雷达)、内窥镜摄像头、医学成像等EVG技术开发和IP总监Markus Wimplinger评论道:“商业和消费市场对晶圆级光学元件和传感器的需求正在以惊人的速度增长,这导致对原材料和工艺的需求进行优化;双方的合作将帮助EVG进一步探索和拓展NIL技术的应用和特性,为下一代光学元件和最终产品提供量产解决方案。
”Inkron首席执行官Juha Rantala表示,“我们的纳米压印高倍率光学器件材料与填充涂层相结合,再加上 EVG 领先的 NIL 系统,为光学制造商提供了关键的晶圆级解决方案,帮助他们快速提高新产品的质量。
使各种新型光传感器能够用于移动消费电子产品,例如 3D 传感、飞行时间、结构光、生物识别、面部识别、虹膜扫描、光学指纹识别、光谱传感、环境传感和红外热学。
其他应用包括汽车照明、光毯、平视显示器、车载传感和 LiDAR(激光雷达),以及用于内窥镜相机、眼科应用和手术机器人的医学成像。
EVG 的 WLO 解决方案由该公司的 NILPhotonics 技术处理中心提供。
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