Imagination 荣获 HORIBA MIRA 颁发的 ISO 26262 流程一致性认证
06-06
据《科创板日报》，中微董事长兼总经理尹志耀表示，公司等离子刻蚀设备已被国际首创采用线客户。
65纳米至14纳米、7纳米和5纳米等先进集成电路加工制造生产线和先进封装生产线。
其中，公司研发的12英寸高端刻蚀设备已应用于国际知名客户最先进的生产线，用于5纳米及5纳米以下器件的几个关键步骤的加工。
中微2月披露的年度业绩报告显示，中微全年刻蚀设备营收12.89亿元，同比增长约58.49%；由于市场原因，中微全年MOCVD设备营收为4.96亿元，同比下降约34.47%。
4月6日，半导体设备制造商中微半导体设备（上海）有限公司（以下简称“中微”）召开年度业绩说明会。
中微董事长兼总经理尹志耀，董事、副总经理杜志友，首席财务官、副总经理陈维文等多名高管出席了吹风会。
据尹志耀介绍，公司生产的等离子刻蚀设备已应用于国际一线客户从65纳米到5纳米等先进集成电路加工制造生产线和先进封装生产线。
AMEC业绩说明会在线直播截图。
中微备受期待的12英寸高端刻蚀设备已应用于国际知名客户最先进的生产线，并应用于5nm及以下器件的多个关键步骤。
的处理。
据介绍，等离子刻蚀机是芯片制造的关键设备。
它用于在芯片上进行显微雕刻。
每条线和深孔的加工精度为人发直径的千分之一到数万。
一方面，精度控制要求非常高。
目前，中微电子主要研发、生产和销售刻蚀设备和MOCVD设备两大产品系列。
2018年刻蚀设备实现收入12.89亿元，同比增长约58.49%，其中新产品感应等离子体ICP刻蚀机销量同比增长5%。
据尹志耀介绍，中微MOCVD设备已在行业领先客户的产线上投入大规模量产，成为全球顶尖的氮化镓基LED设备制造商，销售额占比超过下半年达到60%。
目前，中微的MOCVD设备Prismo D-Blue和Prismo A7可分别实现单腔14片4英寸外延片和单腔34片4英寸外延片的加工能力。
除了用于制造普通照明和背光显示器的蓝光LED外，MOCVD设备还可以制造用于高端显示器的Mini LED和Micro LED，用于杀菌、消毒和空气净化的紫外LED等。
2019年，中微Mini LED生产用MOCVD设备研发进展顺利，现有设备已在领先客户开始生产验证；用于制造 Micro LED 和其他应用的新型 MOCVD 设备也在开发中。
尹志耀表示，2019年，虽然突如其来的新冠病毒疫情和国际形势的动荡对国内外半导体行业的发展既有积极的影响，也有消极的影响，但中国微波公司成功应对新挑战，利用新机遇机会。
这一年取得了可喜的进展。
同时，尹志耀指出，今年下半年以来，集成电路和泛半导体产业以及半导体设备需求呈现快速增长趋势。
财务数据显示，中微全年营收22.73亿元，同比增长16.76%；归属于母公司净利润4.92亿元，同比增长0.02%。
但中微的扣非后归属于母公司的净利润为9400元，同比下降84.19%。
归属于母公司的扣非净利润分别为1.48亿元和1.04亿元。
中微2月披露的年度业绩报告显示，中微全年刻蚀设备营收12.89亿元，同比增长约58.49%，其中新产品感应等离子体ICP刻蚀机销量增长％ 去年同期;由于市场原因，中微全年MOCVD设备营收为4.96亿元，同比下降约34.47%。
尹志耀表示，由于照明等LED市场饱和，近期MOCVD市场处于低潮，但预计功率器件、深紫外LED杀菌，特别是Mini LED背光和显示器、以及Micro LED将有大发展将使MOCVD设备市场未来形成新的发展高潮。
预计全球化合物半导体MOCVD外延设备将逐年快速增长。
对于中微的发展规划，尹志耀表示，公司目前产品主要为等离子刻蚀设备、薄膜沉积等半导体前端生产关键设备，并将逐步发展先进封装、MEMS、蓝绿光、紫外等领域。
用于后端生产的 LED。
、Mini LED、Micro LED等泛半导体设备产品。
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