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韩国双雄抢购ASML新款光刻机

发布于：2024-06-06 编辑：匿名来源：网络

中国电子报近日，有消息称，韩国半导体厂商三星和SK海力士准备订购ASML新款High-NA EUV光刻机。

韩国双雄抢购ASML新款光刻机

ASML表示，新型High-NA EUV光刻机将成为实现2nm工艺技术的关键设备。

预示着2nm制程技术的竞争将更加激烈。

EUV光刻机是延续先进工艺的必备设备。

ASML是全球最大的光刻设备制造商，也是全球唯一能够提供EUV光刻机的设备制造商。

主要半导体制造商的订单已经堆积如山。

。

因此，ASML去年就已经两次上调了产量目标，希望到2020年，其年出货量能够达到大约一台DUV（深紫外）光刻机和90台EUV（极紫外）光刻机。

升级后的高数值孔径 EUV 光刻系统将提供 0.55 的数值孔径。

与配备0.33数值孔径镜头的EUV系统相比，精度将会更高，能够实现更高分辨率的图案化和更小的晶体管特性，成为实现2nm工艺技术的关键设备。

ASML 预计明年向客户交付第一台高数值孔径 EUV 光刻机。

交付后，EUV光刻机将不再是最先进的设备，理论上可以自由发货。

所有想要在2nm市场竞争的玩家都必须得到这款新的光刻机。

英特尔率先宣布订购High-NA EUV光刻机，同时也宣布了以重返晶圆代工市场为目标的集成半导体公司（IDM 2.0）战略。

台积电还表示，将在2020年采购ASML的High-NA EUV光刻机，目标是在2020年量产2纳米工艺技术。

韩国双雄三星和SK海力士也表示将加入订单战。

以三星电子为例，其现有的EUV光刻机预计耗资10亿至15亿元人民币，而High-NA EUV光刻机为了力争2020年2纳米，预计耗资25亿元人民币。

在战斗中占据上风。

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