禾木公司完成数千万美元B轮融资，由高瓴创投领投
06-18
数据金石数据等自媒体报道IFI Den株式会社（I）等20多家日本企业将加入大计划：通过与台积电的合作，保持日本在全球半导体领域的份额。
日本财务省披露的数据显示，4月份日本向中国出口半导体器件23.87亿台，同比增长16%；其对华半导体制造设备出口同比增长67.2%，出口总额达1亿日元（约合人民币83亿元）。
2018年，我国进口芯片价值1亿美元（约合人民币2.4万亿元）。
2020年5月，日本光刻胶供应商“信越化学”停止向大陆半导体厂商提供KrF光刻胶。
日芯半导体对此解释称：“之所以停止向大陆半导体供应KrF光刻胶，是因为KrF光刻胶产能有限。
”为了平衡全球半导体芯片的发展，日本决定限制向大陆一线晶圆厂供应KrF光刻胶。
（SiSC：令人心碎，但却是事实，又是一个非自愿的供应链）业内人士表示，信越化学之所以停止向部分晶圆厂供应KrF光刻胶，与今年2月日本福岛地震有关。
地震对信越化学的KrF光刻胶生产线造成较大破坏，目前生产尚未完全恢复。
另外，地震前，KrF光刻胶产能供应相对紧张。
“全球晶圆代工产能不断扩大，虽然光刻胶市场也保持稳定增长，但实际产能与晶圆厂产能不匹配。
”产能不足加上自然灾害，海外光刻胶急需。
在目前中国晶圆制造厂大力扩大产能的背景下，甚至牵动着行业的神经。
光刻胶有大有小。
日本合成橡胶、东京安佳、信越化学等日本厂商在g线/i线光刻胶、KrF光刻胶、ArF光刻胶市场分别占有61%和80%的市场份额。
%, 93%。
我国适用于6英寸硅片的g线、i线光刻胶自给率约为20%，适用于8英寸硅片的KrF光刻胶自给率不足5%，自给率不足5%。
-适用于12英寸硅片的ArF光刻胶充足率目前刻蚀仍完全依赖进口。
据悉，KrF光刻胶（nm）适用于nm~nm工艺，ArF光刻胶（nm干法）适用于nm~65nm工艺，ArF光刻胶（nm浸没法）本次缺货。
适用于65nm~7nm工艺，这也是目前国内很多晶圆厂采用的工艺。
半导体光刻胶作为光刻工艺的关键原材料，其质量和性能对光刻工艺有着重要影响。
由于其技术壁垒较高，长期被海外厂商主导，成为半导体国产化的一大障碍。
据日本合成橡胶、东京安佳、信越化学等日本厂商统计，其在g线/i线光刻胶、KrF光刻胶、ArF光刻胶市场的占有率分别为61%、80%、93%分别。
我国适用于6英寸硅片的g线、i线光刻胶自给率约为20%，适用于8英寸硅片的KrF光刻胶自给率不足5%，自给率不足5%。
-适用于12英寸硅片的ArF光刻胶充足率目前刻蚀仍完全依赖进口。
据悉，KrF光刻胶（nm）适用于nm~nm工艺，ArF光刻胶（nm干法）适用于nm~65nm工艺，ArFi光刻胶（nm浸没法）本次缺货。
适用于中国晶圆厂所需的65nm~7nm工艺。
国内光刻胶厂商现状（新闻链接：南大光电：已建成2条ArF光刻胶生产线）国内光刻胶领域的代表企业集中攻克高端光刻胶产业化。
以晶瑞股份有限公司为例。
1月19日，晶锐宣布从ASML采购一台ArF浸没式光刻机，将主要用于研发国产高端光刻胶。
据悉，此次购买的光刻机可开发最高分辨率为28nm的高端光刻胶，将是晶锐未来三年的研发重点。
至于KrF光刻胶？目前已完成中试，相关产品下游客户验证正在加速。
预计将在未来几年内实现批量生产。
中国还有一家半导体光刻胶上市公司——南大光电。
去年12月，南大光电国内首条ArF光刻胶生产线建成投产。
在今年5月的业绩说明会上，南大光电表示，其ArF光刻胶产品研发及产业化项目已完成一条25吨光刻胶生产线的建设，主要是先进的光刻设备，如ASML浸没式光刻机。
目前已全部安装完毕并投入使用。
而且不存在被卡住的风险。
此外，南大光电还于5月23日公告称，拟募资不超过6.13亿元，其中1.5亿元拟用于光刻胶项目。
预计项目建成后，将新增年产ArF光刻胶25吨、显影剂20吨、高纯光刻胶试剂20吨（外销）、三氟化氮20吨的生产能力。
同程新材作为国内唯一一家能够供应KrF光刻胶的厂家，从去年开始就开始向国内多家晶圆厂大量进口KrF光刻胶。
业内人士称，信越化学发布暂停供货通知后，国内多家晶圆厂正在加速对同程新材旗下北京科华KrF光刻胶的验证。
目前，北京科华的KrF光刻胶正在快速推向客户。
随着明年公司KrF光刻胶产能逐步释放，将加速覆盖国内多家晶圆厂8英寸、12英寸产线。
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