由于尖端设备的不断增加,EUV和KrF光刻材料市场年前将保持增长。
提供业务和技术信息的TECHCET-Electronic Materials Consulting宣布,2020年光刻胶收入预计将增长6%以上,达到19.8亿美元,到今年将继续增长到23.7亿美元。
由于芯片的高需求和低供应,市场动态将继续推动光刻胶材料收入更高。
? 2018 年 EUVo 将增长 90%,达到 10,000 美元。
销量几乎翻倍,从 2017 年的 18,000 升增至 2018 年的 35,000 升。
o 年收入复合年增长率为 53% o 由尖端逻辑和 DRAM 5nm 驱动 ? 3D NAND 驱动的 KrFo年收入和销售额增长至 12% ? i 线和 g 线:年增长 2%-3% 随着 3D NAND 和逻辑生产的扩大,光刻胶稀释剂和 EBR(边缘珠去除)的使用也将增加未来3-5年。
EBR 严重依赖主要溶剂丙二醇甲醚醋酸酯 (PGMEA)。
值得关注的技术趋势: ? EUV 光刻技术已在台积电和三星逻辑工厂实现大批量生产 (HVM)。
英特尔预计将于2020年开始生产EUV,这将带动EUV配套设备和光刻胶的生产。

?三星电子正计划采用EUV光刻技术量产D1z工艺DRAM。
?3D NAND设备销售增长和节点变化,产生更多的曝光水平,将推动KrF光刻胶使用量的增加,特别是较厚的配方,每年KrF光刻胶使用量增长在20%左右。
?定向自组装(DSA)已表现出良好的效果;缺陷少,适合光刻图案修复。
该技术正在取得进步,有望适用于未来的大规模芯片制造。
?纳米压印(佳能)已显示出改善缺陷和覆盖对准的能力,并且正在针对 3D NAND 存储器生产吞吐量进行测试。
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