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2020年半导体设备市场将大幅复苏

发布于:2024-06-06 编辑:匿名 来源:网络

科技产业微观察链接:SEMI预测:全球半导体设备销量同比反弹,创历史新高。

近日,日本财务省公布了今年12月份的进出口数据。

总体而言,尽管出口下降,半导体设备出口却大幅增长26%。

作为全球半导体设备的主要供应商之一,日本半导体设备产业的进出口状况颇具代表性。

其明显的转变为近期全球半导体需求的改善增添了新的迹象。

业界普遍预计,整个半导体市场在经历了2018年的低迷、半导体制造设备市场下滑之后,2020年将大幅复苏,预计未来几年市场规模将再创新高。

2020年装备行业走势可期。

可以说,2020年对于半导体设备行业来说是比较惨淡的一年。

受整个半导体市场低迷影响,2018年全球半导体设备市场出现下滑。

根据SEMI数据,全球半导体设备年销售额较上年下降10.5%至1亿美元。

然而,全球主要半导体巨头三星电子、台积电、英特尔却一致提高了每年的资本支出。

业界再次看好2019年半导体设备产业走势。

台积电在今年1月举行的新闻发布会上表示,将把每年的资本支出从原来的1亿美元增加到1亿美元,创下历史新高。

三星电子2018年宣布,将在未来十年内投资1亿美元,推动其在逻辑芯片制造领域的扩张,重点升级极紫外光刻(EUV)工艺技术的发展。

英特尔在最近发布的年度财务报告中表示,其计划的年度资本支出约为1亿美元。

目前,业界有消息称“英特尔将提前投资7nm”。

英特尔年度设备投资计划不仅会增加现有14/10nm工艺的产能,还会投资7/5nm工艺。

这些消息对半导体设备市场产生积极影响。

在此影响下,业界开始看好2020年半导体设备行业走势。

SEMI预计全年半导体设备同比增长5.5%,重回1亿美元规模。

全球半导体设备销售额将同比增长9.8%,达到1亿美元的历史新高。

虽然新型冠状病毒疫情短期内会对中国半导体市场造成一定影响,但主要晶圆厂的生产并未受到影响,需求长期向上的趋势没有改变,不会对半导体市场造成重大影响。

对全年设备市场的影响。

影响。

5G和人工智能长期支撑半导体设备产业发展。

分析半导体设备行业的本轮复苏,半导体三大巨头资本支出的增加无疑是拉动半导体设备行业增长的直接因素。

更进一步的原因是5G和人工智能等新一代信息技术发展的影响,刺激了对半导体产品的需求。

5G和人工智能技术是先进工艺的主要应用领域。

例如,今年多家主要手机厂商都推出了5G机型。

这些机型大多采用12nm~7nm先进工艺基带芯片,如高通骁龙X50、联发科Helio M70、英特尔XMM系列、三星Exynos系列、海思巴龙系列等,这为半导体设备创造了潜在需求。

5G和人工智能不仅会在今年短期内带动半导体设备市场复苏,长期也会支撑半导体设备行业的发展。

全球数据量逐年以25%的复合年增长率增长。

到2020年,全球产生的数据量将达到ZB,全球智能互联网设备将达到1亿台。

当前数据生成的速度和规模远远超过现有的处理和计算能力。

数据是未来的石油,驱动信息技术的发展。

未来,更加多样化的数据形态和计算场景,如何释放数据红利,将对计算能力提出更高的要求。

人工智能和大数据的发展将长期推动半导体设备的投资。

中银国际证券研究报告预测,2020年,全球PC互联网时代开启,半导体设备行业市场规模将达到平均1亿美元水平。

2020年半导体设备市场将大幅复苏

到2020年,人类进入智能手机和社交媒体时代,半导体设备行业市场规模已升至平均1亿美元以上。

2020年,人类将进入5G、人工智能和物联网时代,半导体工艺设备的市场规模将增至1亿美元以上的量级。

EUV光刻机的需求持续上升。

荷兰公司ASML无疑成为本轮半导体设备产业发展中受益最大的公司。

随着半导体制造工艺不断延伸至7纳米以下,EUV光刻机的需求将进一步增加。

荷兰公司ASML是目前唯一一家能够提供EUV设备的公司。

每台设备 EUV 价值约为 1.5 亿美元。

EUV的光波长为13.5纳米,比之前的氟化氩(ArF)激光波长(纳米)小很多,可以在不使用多次曝光成像的情况下绘制更详细的半导体电路。

而且,该技术还可以简化成像工艺,因此目前被视为7纳米以下工艺的突破。

目前,EUV技术主要应用于逻辑工艺。

自2018年三星、台积电量产EUV工艺以来,2019年将是ASML EUV光刻机大幅增长的一年。

ASML近日发布了年度财务报告。

全年共出货26台EUV光刻机,营收2000万欧元,同比增长8%。

这种趋势未来仍将持续。

预计每年交付35台EUV光刻机,年交付量将达到45至50台。

EUV光刻看似是一种工艺技术,但其使用涉及整个产业链,包括设备、光刻胶材料、无缺陷掩模版、检测设备等,需要时间的积累。

随着时间的积累,EUV光刻涉及的产业链将进一步成熟,将对半导体行业产生进一步的影响。

EUV的好处之一是减少芯片加工步骤,使用EUV代替传统的多重曝光技术将大大减少沉积、蚀刻和测量的步骤。

这可能会对Applied Materials、Lam等沉积、刻蚀和测试设备制造商的市场发展造成一定影响。

2020年半导体设备市场将大幅复苏

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