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06-18
近年来，Micro LED已成为显示市场的热门技术。
与LCD、OLED等已量产的显示技术相比，Micro LED在亮度、色彩、可视角度、对比度等方面都有更出色的表现。
它在分辨率、分辨力、寿命等大多数技术维度上都有着更好的表现。
目前，越来越多的产业链上下游企业参与到MicroLED技术的研发中，这也在客观上加速了MicroLED的量产进程。
不过，要实现真正的量产，MicroLED仍需克服诸多技术难关，包括外延片的波长均匀性、LED尺寸缩小工艺、巨量转移技术、检测和维护技术、驱动电路设计等。
Semilab成立于2006年，是一家欧洲半导体测试设备制造商，总部位于匈牙利布达佩斯。
经过30多年的技术积累，现已成长为泛半导体行业纯光电测试设备的领先企业，也是泛半导体行业的领军企业。
第四大 PureMetrology 供应商。
Semilab在匈牙利、美国、德国、丹麦、中国设有产品研发和生产中心；销售和技术服务网络覆盖全球半导体行业各个国家和地区；它拥有许多物理学家和许多电学、光学等领域的专家。
专利测量技术；主要为半导体、显示、太阳能、LED及科研行业提供测量技术、测量设备及整体测量解决方案。
基于对MicroLED技术和市场前景的看好，Semilab结合自身深厚的技术积累和丰富的行业经验，与行业伙伴深入合作，开发出针对MicroLED制造不同阶段的检测技术解决方案。
在MicroLED制造过程中，需要精确监控外延层薄膜、MicroLED器件制造过程中的薄膜以及驱动器件薄膜的膜厚和薄膜质量。
针对胶片测试需求，Semilab推出了μSE设备，该设备基于业界领先的光谱椭偏技术，结合超细光斑和材料数据库。
可对CVD、PVD、Coater、Evaporation等工艺中的膜厚和质量进行在线、无损和质量检测。
快速准确的测试。
SemilabμSE设备旨在满足器件性能测试和良率改进的要求。
2017年，Semilab针对MicroLED市场推出了LumiPix设备，该设备结合了明场检测（BF）、光致发光（PL）技术、可选的暗场检测（DF）和光谱测定技术，能够快速、准确地检测目标晶圆的缺陷。
SemilabLumiPixSeries 明场图像被认为是晶圆表面的缺陷信息。
LumiPix的明场检测可以快速处理明场图像，以获得明场图像中的缺陷特征和坐标信息。
光致发光图像对应于半导体材料层的光致发光信息，通过材料的发光特性获得器件的缺陷信息。
因此，这些信息不仅包括来自表面的结构缺陷，还包括来自器件深层的缺陷。
信息。
通过对比明场图像和PL图像，可以更准确地对缺陷进行分类，以发现真正影响良率的器件，从而提高检测效率。
Semilab开发的算法还可以快速对缺陷进行分类，从而提供整个晶圆的统计数据，为长期监控提供基础。
Semilab二十多年来伴随中国泛半导体产业发展，扎根中国市场。
其业务覆盖中国90%以上的泛半导体行业客户。
深入了解客户需求，在半导体、显示、太阳能、LED、科研行业拥有丰富的经验。
应用和技术服务经验为客户提供个性化的产品和服务。
目前，MicroLED技术发展方兴未艾，多种技术发展路线并行运行，但均处于活跃发展阶段，远未形成统一的技术方案和标准。
Semilab表示，将持续加大研发投入，与行业合作伙伴共同针对MicroLED开发中的测试需求提供高标准、定制化的系统解决方案，共同应对技术挑战，助力实现MicroLED显示技术的量产。
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