据外媒报道:为了抢占芯片代工市场,三星还计划实施低价策略扩大市场份额,同时开发制程微缩技术。
据台湾公司TrendForce预测,三星芯片代工业务今年第四季度营收预计同比增长19.3%,但仍难以缩小与台积电的差距。
集邦咨询研究机构预计,今年Q4全球芯片代工总产值将环比增长6%。
市场份额前三名分别是:台积电52.7%、三星17.8%、格罗方德8%。

针对5G、TWS耳机等新应用市场的拓展,市场上推出了一系列5G芯片,包括华为麒麟5G SoC、华为巴龙、联发科天玑5G SoC、高通骁龙、紫光展锐、三星Exynos等这些高端芯片均由台积电代工,使其7nm生产线达到满负荷生产,订单供货期从两个月延长至六个月。
新推出的高通骁龙旗舰芯片以及骁龙系列中高端芯片均采用最新的7nm工艺打造,但骁龙的7nm“N7P”工艺显然比普通的7nm先进很多。
不过这款原本由三星代工的旗舰芯片最终被交给了台积电,三星只能拿到骁龙系列中高端芯片的订单。
三星之所以在5G高端芯片代工业务上受到限制,主要是因为其IDM地位,而不是产线技术以及完成的早晚。
据悉,三星的7nm布局比台积电提前了几个月(但进度稍晚),目前仍无法获得高端芯片Snapdragon的订单。
三星的7nm生产线仅分配给中端S和SG订单。
真正的原因是高通担心三星“复制”该芯片的工艺技术。
就三星而言,市场对明年的5G手机寄予厚望,这减缓了自有品牌高端4G手机的需求。
不过,由三星生产的高通5G SoC将于第四季度末出货,有望弥补手机销量原本的下滑。
地位。
----------三星的工艺现状和未来计划 三星在10nm、7nm和5nm节点的进展将晚于台积电。
如此一来,台积电几乎包揽了目前的7nm芯片订单,而三星则只抢了IBM、英伟达和高通的部分订单。
不过,三星已经把目光投向了未来的3nm工艺,预计在2020年完成开发,并在2020年实现量产。
在3nm节点,三星将从FinFET晶体管转向GAA环绕栅晶体管技术。
3nm工艺采用第一代GAA晶体管,官方称为3GAE工艺。
基于新的GAA晶体管结构,三星利用纳米片设备创建了MBCFET(Multi-Bridge-Channel FET,多桥通道场效应晶体管)。
该技术可以显着增强晶体管性能,主要取代FinFET晶体管技术。
此外,MBCFET技术还与现有FinFET制造工艺技术和设备兼容,从而加速工艺开发和生产。
与目前的7nm工艺相比,5nm工艺可减少核心面积45%,功耗降低50%,性能提升35%。
与5nm工艺相比,3nm GAA技术的逻辑面积效率提升了35%以上,功耗降低了50%,性能提升了约30%。
工艺进度方面,三星已于今年4月在韩国华城的S3 Line工厂生产7nm芯片,并将于年内完成基于极紫外技术(EUV)的5nm FinFET工艺技术的研发。
现在三星正在研究下一代纳米技术(即3nm GAA)。
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