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06-17
光学薄膜应用广泛，从精密光学仪器到光纤通讯、显示器、数码相机，甚至钞票防伪技术。
他们并不缺乏。
一般来说，光学薄膜是指在光学玻璃、光纤、晶体等各种材料的表面镀上一层或多层薄膜，利用薄膜内部光的干涉作用来改变透射或反射的强度和偏振。
光。
改变状态和相位的光学元件；其制备过程称为“光学镀膜”，工艺有多种，如物理气相沉积（PVD）、离子束辅助沉积、溶胶-凝胶法等。
然而，随着光电系统的小型化，基底的多样化随着材料的创新迭代以及各种工业应用的创新迭代，以PVD为代表的传统薄膜制备方法在膜厚控制、致密性、保形性等方面逐渐显现出其不足。
原子层沉积技术（ALD）可以以原子级精度调整光学材料的性能，无论是在纳米结构的微观层面还是任何形状的光学器件的宏观层面，已成为当今最流行的光学镀膜解决方案。
近日，行业领先的ALD设备制造商和服务商思锐智能携Beneq品牌盛大亮相第23届中国国际光电博览会（以下简称CIOE），并分享了ALD设备的主流产品及其众多产品。
光学领域的成就。
创新的解决方案。
在谈到ALD技术在该领域的应用前景时，思瑞智能总经理聂翔表示：“无论是从前端模组到后端器件的光学镀膜应用，思瑞智能都提供了先进ALD的一站式解决方案解决方案可满足客户从研发、中试到工业量产的全方位镀膜需求。
“加速‘ALD光学镀膜’扩产步伐，产学研布局助推行业发展。
”众所周知，稳定的光学性能需要高度的均匀性。
薄膜材料。
根据光学性能要求，典型光学薄膜的膜厚均匀度要求为1%左右。
以大口径球面光学镜片镀膜为例，思锐智能副总经理陈祥龙指出：“通过使用Beneq PA ALD设备对球面镜片表面镀膜进行测试，在量产中经过全方位角度测量，所有镀膜样品的膜层不均匀度仅为1.2%，在行业内处于非常领先的标杆。
”同时，SRII不断拓展在光学领域的生态合作版图。
研究院与浙江大学光学光电薄膜研究所正式签约。
此次战略合作协议旨在建立基于公司PA系列设备进行技术开发和应用创新的联合实验室，推动产学研合作，助力国内半导体及先进光学等相关产业快速发展。
图1：思锐智能ALD光学镀膜解决方案受到业内人士关注。
事实上，Beneq P系列设备是专门为工业规模生产而设计的原子层沉积系统，包括PA、P以及最新的P型号，均配备了高容量反应器，克服了同类ALD设备沉积速度慢等限制速率慢，不兼容大尺寸产品，难以批量生产。
是从研发阶段到大规模工业生产的理想工具，可用于光学镀膜和半导体设备零件。
涂层，以及OLED和电子设备等尖端应用市场的防潮涂层。
此外，P 系列设备还为各种基材提供定制腔室配置选项，并且腔室易于更换，最大限度地减少了因维护而造成的停机时间。
图 2：SRII 展示其 Beneq 品牌 PALD 设备模型。
除了P系列工业量产ALD设备外，新一代航天ALD设备也引起了业内人士的广泛关注。
据悉，Beneq C2R设备是“率先尝试”的。
首次将旋转等离子体增强ALD（PEALD）工艺应用于量产并取得成功。
它是一种 ALD 涂层解决方案，可以非常快速地提高产能。
由于Beneq C2R设备采用旋转PEALD工艺，因此其沉积的薄膜厚度每小时可达数微米。
因此，Beneq C2R 是选择具有高沉积速率、低成本、低工艺温度和最佳薄膜质量的 ALD 设备的理想选择。
Transform系列拓展了ALD创新的边界，接管了激光雷达等微纳光学系统的镀膜应用。
为了应对光电系统小型化、结构复杂化的发展趋势，ALD镀膜技术也在不断改进和优化，以适应市场要求。
以目前流行的激光雷达（Lidar）为例。
尽管激光雷达系统的结构类型不同，但其关键部件如激光器和二极管、光学元件、基于固态激光雷达的波控、光电探测器和信号处理单元等，在其制备过程中不可避免地需要ALD镀膜工艺。
图 3：激光雷达系统的 VCSEL 器件需要复杂的涂层工艺才能实现功能完整性。
对此，陈祥龙表示：“先进的ALD镀膜技术可以最大限度地提高器件的光电性能和可靠性指标。
Beneq Transform系列非常适合激光雷达等微纳级光电系统，其优异的ALD镀膜工艺仍能保持超高的保形性、膜密度、微观层面精确的膜厚控制等诸多优势。
我们致力于将ALD技术推向新的高度，打破ALD增速缓慢的固定思维，通过开发P系列、C2R系列、Transform系列以及即将推出的GENESIS等丰富的产品线，进一步推动ALD技术向更高水平迈进系列。
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