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06-17
据上海新阳公告，公司与北方集成电路技术创新中心（北京）有限公司签署《合作框架协议》，双方将建立光刻胶验证平台。
合作框架协议中，北方集成电路技术创新中心（北京）有限公司指定一家工厂建设光刻胶验证平台。
该平台由一台ArF光刻机和一台涂布显影机组成，用于先进的光刻胶验证；双方将采取多元化模式，在ArF（纳米）干式光刻胶产业化领域开展广泛、深入的合作。
未来，该公司将把购买的用于nmArF干式光刻胶研发的ASML光刻机放置在合作伙伴指定的地点。
双方正在就光刻机底座进厂安装和生产进行沟通和洽谈。
基础安装完成后，光刻机即可供合作伙伴使用进行调试。
预计该光刻机将于今年3月底前进入合作伙伴现场。
关于光刻胶和半导体光刻胶光刻胶又称光刻胶，是一种用于加工精细图案的感光有机混合物。
基本成分包括：树脂、溶剂、光引发剂、单体及其他助剂。
据了解，低端g/i线光刻胶占整个半导体光刻胶市场份额的31%，高端KrF和ArF-i光刻胶市场份额最大，达到45%，基本以半导体光刻胶为主。
日本。
企业垄断。
日本JSR、东京安佳、日本信越、富士电子材料占据全球光刻胶市场72%的份额。
其中，仅JSR就占据了全球光刻胶市场28%的份额。
值得一提的是，JSR也是氟化聚酰亚胺的重要供应商。
以ArF光刻胶产品为代表的先进光刻胶和工艺的主要技术和专利均由国外公司和研究部门控制，如日本信越化学、合成橡胶、东京安佳、住友化学、富士胶片和美国等。
陶氏化学尤其是日本企业的份额非常高。
在KrF光刻胶方面，日本也占据主导地位。
在这一领域，韩国企业占全球市场份额的5%，美国企业占11%。
目前PCB光刻胶是国内发展最快的替代品，已大批量供应主流厂商。
据悉，荣达感光、广新材料、东方材料、飞凯材料、永泰科技等大陆企业占据国内湿膜光刻胶和光成像阻焊油墨市场份额约46%。
但进入市场的半导体光刻胶厂商较少，主要有南大光电、晶锐、上海新阳、北京科华等。
随着国内新建晶圆厂的密集投产以及市场需求的增长，半导体光刻胶未来还有很大的扩张空间。
南大光电12月17日宣布，公司控股子公司宁波南大光电自主研发的ArF光刻胶产品近日顺利通过客户认证。
“ArF光刻胶产品开发及产业化”是宁波南大光电承担的国家“02专项”重点攻关项目。
本次验证采用的50nm闪存技术平台在特征尺寸方面可以满足45nm-90nm光刻要求。
该孔工艺技术可满足65nm-90nm光刻要求。
该工艺平台的光刻胶在业界具有良好的代表性。
性别。
台大光电表示，该项目已作为我国“极大规模集成电路制造装备及成套工艺”的核心部分列入我国国家重大科技计划项目，并得到国家科技部的大力支持和技术。
作为战略性产业，对提高国家综合国力具有重大作用。
苏州瑞虹是晶锐股份有限公司的全资子公司，主要生产半导体和平板显示器用光刻胶，包括UV负性光刻胶、广谱正性光刻胶和部分g/i线正性光刻胶等。
产品，承担了国家重大科技专项02专项“i线光刻胶产品开发及产业化”项目，并率先实现了i线光刻胶的量产。
该产品采用步进重复投影曝光技术，可达到0.35um分辨率。
速度。
2017年，晶锐科技斥资1万元从韩国SK海力士进口二手ASML光刻设备，全面开展集成电路制造高端ArF光刻胶研发项目，开发最高分辨率的高端光刻胶28纳米。
10月9日，晶锐科技宣布，为开展集成电路制造高端光刻胶研发项目，拟通过新测科技PTE进口ASML光刻设备。
有限公司总价为5,000美元。
上海新阳 上海新阳此前在投资者互动平台表示，已投资购买ASML型（55nm）二手光刻机，用于光刻胶的研发；其参股的博研电子主要生产液晶光刻胶，正处于快速成长期。
量产阶段；半导体厚膜KRF配套存储芯片光刻机已完成中试；纳米ArF光刻胶及配套材料和应用技术应用于集成电路制造。
2020年12月14日，上海新阳发布公告称，公司ArF干式光刻胶和KrF厚膜光刻胶的研究阶段已完成，产品配方和生产工艺已基本确定，中试产品已通过客户验收进行基础工艺评估、后续客户在线验证以及量产前测试验证。
预计KrF厚膜光刻胶将于2018年实现量产，ArF干式光刻胶将于2018年开始量产，全年各产品总销售收入预计将达到近2亿元。
北京科华 据了解，北京科华先后开发了一系列高端光刻胶产品（包括nm、I线、G线光刻胶等）。
在这些产品系列已实现工业化应用的基础上，还有大量品种或处于与客户的试验阶段，或处于与客户的试验准备阶段。
2020年7月，同程新材料全资子公司同程电子斥资8.3万美元收购国内光刻胶行业龙头企业北京科华微电子材料有限公司33.70%的股权。
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