探真科技获联想之星数千万元Pre-A轮投资
06-17
近日，SUSS MicroTec与Micro Resist Technology GmbH（以下简称MRT）宣布成立合资公司，进一步推动纳米压印光刻技术（Nanoimprint）在新兴应用领域的发展未来。
光刻，NIL）开发。
此次合作将依托SUSS印记卓越中心逐步开展。
半导体领域设备和工艺解决方案供应商SUSS MicroTec与研发和生产创新光刻胶和先进纳米压??印材料的MRT公司近日宣布在纳米压印光刻（NIL）领域开展合作。
纳米压印光刻是通过高保真图案转移推动增材制造革命的关键推动者。
越来越多的光子学新兴应用开始采用紫外纳米压印技术（UV-NIL），例如3D人脸识别和增强现实（AR）眼镜中的衍射光学元件（DOE）和其他微纳米结构。
还有光学传感器、激光纳米PSS（Patterned Sapphire Substrate，图案化蓝宝石衬底）结构等。
纳米压印光刻及其应用的要求在不断变化。
因此，本次合作的基本目标是了解市场的最新需求，然后利用双方在技术和材料方面的优势，共同开发相应的解决方案，以应对行业中不断出现的严峻挑战。
高品质的压印技术基于三个核心：设备、技术和材料。
前两个核心领域（设备和制造工艺专业知识）目前通过 SUSS Imprint Excellence Center 解决，该中心是 SUSS MicroTec Lithography GmbH 和 SUSS MicroOptics SA 的合资企业。
第三个核心的加入，即纳米压印材料供应商MRT的专业化学知识，是一个强大的组合。
这三个核心的结合更好地满足了行业的高要求及其对纳米结构复制更具挑战性的要求。
“SUSS 压印卓越中心在大规模生产环境中的压印设备和工业级工艺开发领域拥有数十年的经验。
” SUSS MicroTec 首席执行官 Franz Richter 说道。
“这必须通过与光刻胶供应商的密切合作来实现，并且通过与经验丰富的材料供应商的强有力的合作关系进一步加强这种结合，以实现完美的纳米压印解决方案。
“参与此次合作的公司致力于深化合作，共同目标是推动现有和新兴应用走向高性能、大规模生产。
”二十多年来，微光刻胶技术在全球范围内取得了成功。
光刻胶配方专为纳米压印光刻而定制。
“我们在聚合物化学和纳米复制工艺方面的专业知识使我们能够提供最先进的材料解决方案，解决越来越多的工业用例，其中纳米复制技术现已用于制造消费品。
我们很高兴与合作伙伴合作因为当材料和设备完美匹配时，可以极大地提高我们客户的纳米压印工艺在工业应用中的产量。
SUSS 压印卓越中心为该技术的推广提供了绝佳的机会。
交付至SUSS压印卓越中心，纳米压印光刻技术将被更多行业用户普及。
” 关于 microresist technology GmbH microresist technology GmbH 是一家领先的公司，致力于开发和生产创新光刻胶、聚合物和光聚合物以及用于微结构和纳米结构光刻制造工艺的补充工艺化学品。
这些材料解决方案用于关键技术和增长市场，如微系统技术、微电子、光电子、微米和纳米光子学、微米和纳米技术以及生命科学。
它成立于 ，是一家业主管理的公司，拥有 50 多名员工。
公司办公室包括。
sqm 的开发部门、制造和物流以及自己的应用洁净室位于德国柏林。
该公司已成功通过以下标准认证：ISO：和ISO 1：。
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