· 在真空条件下将七种工艺技术集成到一个系统中,使互连电阻减半· 新材料工程解决方案提高芯片性能并降低功耗· 最新系统展示了应用材料公司成为全球领先的半导体制造商的战略PPACt 为其客户提供支持的公司?。
6月16日,应用材料公司推出了全新的先进逻辑芯片布线工艺技术,可扩展到3纳米及以下技术节点。
。
应用材料公司的新型 Endura? Copper Barrier Seed IMS? 解决方案在高真空条件下将七种不同的工艺技术集成到单个系统中,从而提高了芯片性能和功耗。
Copper Barrier Seed IMS? 是一种新的材料工程解决方案。
这一集成材料解决方案在高真空条件下将七种不同的工艺技术(ALD、PVD、CVD、铜回流、表面处理、界面工程和计量)集成到一个系统中。
其中,ALD选择性沉积取代了ALD保形沉积,消除了通孔界面处原有的高阻阻挡层。

该解决方案还采用了铜回流技术,以实现窄间隙中的无空隙间隙填充。
采用该方案,通孔接触界面的电阻降低了50%,芯片性能和功耗得到提升,逻辑缩放可以持续到3nm节点及以下。
应用材料公司半导体产品部高级副总裁兼总经理Purab Raja表示:“每个智能手机芯片中都有数百亿条铜互连线,仅布线的功耗就占了整个芯片的功耗。
”第三,在真空下集成多种工艺技术使我们能够重新设计材料和结构,使消费者拥有更强大、更耐用的设备,这种独特的集成解决方案旨在帮助客户提高性能、功耗和面积成本。
Seed IMS 系统现已被世界领先的逻辑节点代工厂生产的客户使用。
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