VEECO 和 ALLOS 展示业界领先的 MM 硅基氮化镓性能,以促进 micro-LED 应用 纽约州普莱恩维尤,11 月 1 日2019 年 – Veeco Corporation(纳斯达克股票代码:VECO)宣布与 ALLOS Semiconductors (ALLOS) 达成一项战略计划,展示用于蓝光/绿光 Micro-LED 生产的毫米硅基氮化镓晶圆。
Veeco 和 ALLOS 正在合作,将其专有的外延技术转移到 Propel? 单晶圆 MOCVD 系统,从而能够在现有的硅生产线上生产 micro-LED。
“利用Propel反应器,我们拥有了MOCVD技术,能够实现高产率GaN外延,并满足在毫米硅生产线上生产micro-LED器件的所有要求,”ALLOS Semiconductors首席执行官Burkhard Slischka这样说道。
“不到一个月的时间,我们就在Propel上验证了我们的技术,获得了无裂纹、免回流焊、翘曲度小于30微米、晶体质量高、厚度均匀性优异的晶圆。
波长均匀度小于1纳米。

ALLOS 期待与 Veeco 一起在 micro-LED 行业推广这项技术。
“Micro-LED 显示技术由 30x30 平方微米的红、绿、蓝 (RGB) 无机 LED 组成。
这些 LED 被转换成显示背板以形成子像素。
这些高效 LED 的直接发射功耗比有机 LED 低( Micro-LED 的制造需要高质量、均匀的外延片,以满足生产和成本控制的要求。
“Veeco 的 TurboDisc? 技术提供了比竞争性 MOCVD 平台更大的工艺窗口,因此 Propel 可以提供一流的均匀性,同时仍能实现出色的薄膜质量,”Veeco 高级副总裁兼首席 MOCVD 运营经理 Dr. So 说道。
Peo Hansson。
“将 Veeco 领先的 MOCVD 专业知识与 ALLOS 的 GaN-on-Si 外延片技术相结合,使我们的客户能够为新市场的新应用开发低成本的 micro-LED。
”关于 VeecoVeeco(纳斯达克股票代码:VECO)是创新半导体工艺设备的领先制造商。
我们经过验证的 MOCVD、光刻、激光退火、离子束和单晶圆蚀刻和清洁技术在固态照明和显示 LED 的制造以及先进半导体器件的制造中发挥着不可或缺的作用。
Veeco 的设备旨在最大限度地提高性能、吞吐量和拥有成本,在其服务的所有市场中都拥有技术领先地位。
要了解有关 Veeco 创新设备和服务的更多信息,请访问 关于 ALLOS Semiconductors ALLOS 是一家知识产权许可和技术工程公司,致力于帮助全球半导体行业的客户掌握并利用硅基氮化镓技术的优势。
ALLOS 正在授权其专有技术和专利,并将其技术转移到客户的 MOCVD 反应器中。
此外,ALLOS 还针对下一代硅基氮化镓开发中面临的挑战提供针对客户的解决方案和咨询服务。
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