5月31日晚,南大光电宣布,控股子公司宁波南大光电自主研发的ArF光刻胶在国内某存储芯片制造公司使用同年12月。
继公司50nm闪存平台通过认证后,近期逻辑芯片制造公司55nm技术节点产品取得认证突破,表明公司光刻胶产品已满足55nm后端金属布线层的工艺要求平台。
受利好消息影响,南大光电今日开盘股价大幅上涨。
截至收盘,股价上涨11.17%,报收于35.19元/股。
数据显示,随着芯片进入纳米级别,半导体光刻胶的波长也在不断缩短,并逐渐从紫外广谱发展到g线(nm)、i线(nm)、KrF(nm)、ArF(nm) )、ArF沉浸式,以及最先进的EUV(13.5nm)线级。
从国内光刻胶市场来看,低端中g线/i线光刻胶自给率在20%左右,KrF光刻胶自给率不足5%,而高端ArF光刻胶完全依赖进口。
是国内半导体的卡壳技术之一。
虽然南大光电的ArF光刻胶现已通过55nm工艺认证,但ArF光刻胶涵盖了广泛的工艺技术,可用于90nm-14nm甚至7nm技术节点制造工艺。
广泛应用于芯片制造(如逻辑芯片、存储芯片、AI芯片、5G芯片和云计算芯片等)。

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