【全球财经24小时】2023年12月22日
06-18
日经中文网 台积电（台积电、台积电）和英特尔将每年增加设备投资至历史新高。
三星电子的设备投资也预计将同比增加。
这是因为，随着使用“EUV（极紫外）”的光刻设备的出现，半导体制造工艺在10年后正在经历升级。
尽管新冠病毒可能对投资意愿造成打击，但生产设备企业的优胜劣汰可能会加速。
台积电已将每年的设备投资增加至最高1亿美元。
预计同比增长超过50%，创历史新高。
英特尔计划每年投资约1亿美元。
三星电子并未透露具体计划，但预计将在2019年的基础上增加26.9万亿韩元（约合人民币1亿元）。
这背后有2个原因。
首先是半导体市场的复苏。
世界半导体贸易统计组织（WSTS）的数据显示，全球半导体市场每年下降13%至1亿美元，预计每年将增长6%。
随着 5G 的实用化，各行业对半导体的需求不断增加。
另一个原因是制造工艺的升级。
光刻设备将电路转移到半导体的方式正在发生十年来的首次改变。
关键是荷兰的ASML，是全球唯一推出最尖端的极紫外（EUV）光刻设备的公司。
半导体的电路线宽越细，性能的提高和功耗的降低就越多。
现在最先进的是7纳米（一纳米是十亿分之一米），但要形成如此薄的电路需要极紫外光刻设备。
台积电和三星电子瞄准了价值超过1亿日元的高价设备，竞相投资。
ASML截至12月的财年综合营业收入同比增长8%至13亿欧元。
该公司总裁兼首席执行官（CEO）Peter Wennink表示，未来使用极紫外光的设备将全面量产，“预计2020年实现销售额和利润双增长”。
随着尖端极紫外光刻设备的普及，周边的半导体制造设备和原材料领域也将得到更新。
其标志是日本公司Lasertec，涉足检测设备。
该公司于2016年成为全球第一家将极紫外光掩模缺陷检测设备商业化的公司，其股价一年内翻了两番。
光掩模是一种功能类似于照片“负片”的组件。
如果出现微小缺陷等，则不能正常形成半导体电路。
Lasertec的测试设备每台成本超过80亿日元，但赢得了大公司的积极采购谈判。
Lasertec预计截至6月的财年综合净利润将比上年增长69%，达到1亿日元。
此外，大型半导体制造设备制造商东京电子和SCREEN Holdings也将增加应对极紫外线的设备供应。
电路变得越精细，形成和清洁就越困难。
东京电子等公司希望与半导体制造商合作开发下一代制造设备，增加市场份额并甩开竞争对手。
与此同时，行业重组的氛围也在增强。
去年12月，HOYA试图对东芝旗下涉足半导体制造设备的上市子公司NuFlare Technology发起敌意TOB（公开要约收购）。
虽然最终没有成功，但在大型半导体厂商加速采购极紫外相关设备的背景下，泰格豪雅希望通过收购来增加乘数效应。
半导体制造工艺的进步将加速相关企业之间的优胜劣汰。
20世纪，尼康和佳能凭借老式光刻设备风靡全球。
但在 20 世纪 90 年代，他们在与 ASML 的竞争中失败了。
因极紫外光开发竞赛失败而退出。
台积电和三星电子正在使用极紫外光刻设备批量生产线宽为7纳米的半导体。
一方面，英特尔推迟了上一代10nm产品的量产。
即使在三大半导体公司之间，芯片开发的竞争也在造成差距。
各厂家设备投资逐年增加，就是升级危机的明证。
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