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Mentor EDA 软件进一步支持 Samsung Foundry 5-4nm 工艺技术

发布于：2024-06-06 编辑：匿名来源：网络

Mentor 领先的 Calibre? nmPlatform 和 Analog FastSPICE (AFS) 定制和模拟/混合信号 (AMS) 电路验证平台现已兼容 Samsung Foundry 最新的 5/4 nm FinFET 工艺技术要求使客户能够使用最新的解决方案来验证和签核其先进的 IC 设计流片。

三星的5nm FinFET工艺在功耗、性能和面积（PPA）方面都具有出色的表现。

其固有的增强功能，结合更精细的5nm几何结构，可以实现比前几代工艺节点更好的性能提升。

三星电子设计支持团队副总裁 Jongwook Kye 表示：“三星和 Mentor 有着悠久的合作历史，让我们共同的客户能够充分利用 Calibre 解决方案的各种功能。

现在，Calibre和AFS均已获得最新的三星代工工艺认证，双方的专业知识再次结合，帮助设计人员快速开发和验证创新IC，以应对各种高增长的市场和应用需求。

“除了 Calibre nmDRC 之外，它还通过了 Samsung Foundry 的最新工艺认证。

Mentor 工具还包括： ● Calibre? xACT - 该工具可解决与先进纳米设计相关的技术挑战，包括多重曝光、FinFET、局部互连、高其独特的混合引擎提供了对于 FinFET 等精细 3D 结构至关重要的场解算器的高精度，同时 Calibre xACT 还提供快速吞吐量以快速完成全芯片设计。

● Calibre? YieldEnhancer - 具有 SmartFill 和借助 ECO Fill 功能，客户可以控制设计平坦度并减少多次设计迭代的周转时间，三星与 Mentor 合作定制此工作流程，通过减少 IR 压降，帮助客户提高设计的可靠性。

Mentor EDA 软件进一步支持 Samsung Foundry 5-4nm 工艺技术

其领先的工艺技术具有最多的通孔数量。

● Calibre? PERC - 该工具使用独特的集成方法进行物理布局和网表分析，以自动执行复杂的可靠性验证检查。

支持 5/4nm 工艺的 Samsung Foundry Calibre PERC 设计工具套件可以提供额外的验证检查，帮助客户应对与静电放电和闩锁效应可靠性相关的挑战。

● Calibre? nmLVS 可用作任何 Samsung Foundry 提取流程的前端。

Calibre nmLVS 解决了日益增加的布局复杂性并满足设计团队的高级计算需求，帮助他们验证复杂的电路，同时在预期的运行时间内实现先进的工艺节点设计。

● Calibre? 实时数字和自定义界面平台 - 该平台利用经过 Samsung Foundry 认证的批量 Calibre 设计套件，在数字和自定义设计流程中立即执行签核质量 DRC 检查。

这些接口在高级和成熟节点设计的 DRC 融合期间提供了显着的生产力优势，帮助客户快速优化其手动 DRC 修复，以便他们可以更加专注于其 PPA 目标。

● AFS 平台，使片上系统(SoC) 设计人员能够放心地完成电路验证。

Samsung Foundry 的器件模型和设计工具套件支持 AFS 平台。

这使得联合客户能够比传统 SPICE 模拟器更快地实现纳米级 SPICE 精度验证，以验证模拟、射频、混合信号、存储器和定制数字电路。

“Samsung Foundry 继续提供基于最新工艺的高度创新技术，以解决日益复杂的 IC 设计挑战，”Mentor Calibre Design Solutions 产品管理副总裁 Michael Buehler-Garcia 说道。

“我们很高兴继续深化与三星代工厂的合作，并作为其创新解决方案的关键设计元素，帮助我们的共同客户设计和制造最先进的 IC 产品。

” Mentor Graphics Corporation 是西门子的子公司，是一家世界领先的电子硬件和软件设计解决方案公司，为世界上最成功的电子、半导体和系统公司提供产品、咨询服务和优质支持。

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