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Mentor Tanner 模拟-混合信号工具获得台积电模拟 IC 设计专有流程认证

发布于：2024-06-06 编辑：匿名来源：网络

西门子旗下 Mentor 近日宣布推出其 Tanner? 模拟/混合信号 (AMS) 设计工具——Tanner S-Edit 原理图输入工具和 Tanner L-Edit 布局编辑器 - 现已获得认证，可与 TSMC 的可互操作 PDK (iPDK) 一起使用，适用于各种 TSMC 专有工艺技术，以实现大批量模拟 IC 设计。

Mentor 的 Tanner AMS 设计工具经过优化，可创建适用于 22 纳米及以上工艺的完全定制模拟或“顶部模拟”混合信号集成电路 (IC)。

许多领先的 IC 供应商都使用 Mentor 的 Tanner 工具为汽车、可穿戴设备和工业物联网 (IoT) 等广泛市场设计高度复杂的 AMS 设备。

“在全球许多增长最快的市场中，对能够无缝连接模拟和数字世界的专用 AMS 芯片的需求日益增长。

Mentor 的 Tanner 工具专门为帮助 IC 设计人员满足这一不断增长的需求而设计，同时也提供了一个理想的平台来创建高度创新的 AMS 设计”，西门子旗下 Mentor 集成电路设计系统部门总经理 Greg Lebsack 说道。

“台积电的专有技术适合支持模拟 IC 设计。

该流程的 Tanner AMS 工具已获得认证，这对我们的客户来说是个好消息，有助于加快上市时间并降低我们共同客户的风险，因为 Mentor Tanner AMS 解决方案与 TSMC 的专有工艺相结合，它是模拟 IC 设计的真正动力源。

“TSMC 的 iPDK 专有工艺技术可帮助芯片制造商满足领先的 AMS IC 设计的特定要求，其中包括许多代工厂。

22纳米超低功耗、28纳米高性能计算、40纳米混合信号技术以及当今最先进模拟IC的其他专有工艺技术。

TSMC 设计基础设施管理组高级总监 Suk Lee 表示：“我们与 Mentor 的长期合作确保我们能够为共同客户提供他们所需的 EDA 解决方案、服务和相关支持，以在特定节点成功设计和制造芯片。

” 。

“此次合作将台积电的专有工艺技术与 Mentor 的先进设计工具相结合，帮助我们的客户在汽车、智能可穿戴设备和工业物联网等广泛的细分市场中取得创新成功。

Mentor Tanner 模拟-混合信号工具获得台积电模拟 IC 设计专有流程认证

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