5G将为媒体和娱乐行业带来1.3万亿美元的新收入
06-06
中微半导体 - 多元化产业布局，用“硬科技”推动硬实力持续崛起 今天，开业三周年目前，中微半导体装备（上海）股份有限公司（以下简称“中微”，上交所股票代码：12）是科创板首批25家上市公司之一。
科创板也迎来了上市三周年。
勇敢的登山者志在登顶。
科创板成立以来，依托强有力的政策和资金支持，半导体装备龙头股中国微电子坚持创新驱动发展，践行科学管理规章制度，实现了业绩稳健增长。
经过一年的发展，在技术创新、业务拓展、产业链建设等方面取得了一定进展。
协作和人才建设取得重大进展。
·公司全年营业收入和利润再创历史新高，分别达到31.08亿元和10.11亿元，分别是全年销售额和利润的1.5倍和5.3倍； ·截至年末，公司已申请专利3项，其中发明专利； ·2018年ICP刻蚀设备腔体累计生产出货，产量同比增长%； ·2018年，公司员工含研发人员占比39.6%，人均收入再创新高，同比增长15.5%。
科创板的设立并实行注册制，为科创产业发展注入新活力，为高新技术企业发展创造新机遇。
中微董事长兼总经理尹志耀博士表示：“登陆科创板对于中微来说意义重大。
回顾过去三年，我们拓宽了融资渠道，提升了中微的市场影响力。
另一方面，良好的股权激励政策也让我们能够更好地激励员工，打造人才队伍，加快发展，为中国铺平道路。
微创成为国际领先的一流设备公司。
” 2019年7月22日，中国微电子在首批25家科技型企业集体挂牌仪式上合影。
国际领先的尖端产品构筑了公司的“硬技术”实力。
中微致力于发展微加工装备，通过打造具有国际竞争力的技术创新和差异化产品以及多元化的产品线布局，为客户和市场提供卓越的业绩。
、高生产效率和高性价比的设备解决方案。
中微凭借国内首创的高端等离子刻蚀机，成为国内高端微加工设备的领先者。
在刻蚀设备方面，中微的等离子刻蚀设备已批量被国际一线客户应用于65纳米至14纳米、7纳米、5纳米等集成电路和先进封装的加工制造。
其中，CCP等离子Bulk刻蚀设备产品继续保持竞争优势，市场份额在部分重点客户中已进入前三甚至前二； ICP刻蚀设备在客户端也取得突破性进展，年出货量超过腔体，同比增长超过%。
在MOCVD设备领域，中微用于氮化镓基LED外延生产的MOCVD设备已在行业领先客户的生产线上投入大规模量产。
中微已成为全球、国内顶尖的氮化镓制造商之一。
立足LED设备制造商并持续保持行业领先地位。
此外，中国美光还在研发用于集成电路后端的先进封装设备，以及MEMS、Mini LED等领域国际先进的设备产品。
截至年底，中微已拥有2个及以上反应站，服务于亚洲和欧洲50多家芯片制造公司的70多条生产线。
高效运用资金，汇聚创新动力。
上市后，小微公司高效利用募集资金，持续创新增效，精益运营，与客户、合作伙伴协同共赢，实现了产品订单和销量的稳步增长。
2017年，中微营业收入和利润双双创历史新高。
营业收入同比增长36.7%至31.08亿元。
归属于母公司净利润10.11亿元，同比增长0.5%。
这一年，公司在科创板上市。
以及1.5倍和5.3倍的利润。
作为一家“硬技术”能力较强的企业，中微科创板上市后持续保持高水平的研发投入。
研发投入金额大、研发投入比例高，为公司专注于高端微加工装备的自主研发和创新提供了保障。
上市三年来，公司持续推动实施以研发创新驱动的高质量增长战略。
公司研发投入同比增长13.8%，占全年营业收入的23.42%。
截至年底，中微已拥有多项自主知识产权和核心技术，并已申请多项专利，其中包括发明专利；已获得多项专利授权，其中包括发明专利。
“硬技术”的实力离不开一支技艺精湛、勇于创新的国际化人才团队。
上市后，中微实施了基本覆盖全体员工的二类限制性股票激励计划，以吸引和留住优秀人才，保证核心技术团队和技术发展的稳定性和可持续性。
全员持股的激励制度和合作共赢的团队精神，让中微吸引了来自世界各地经验丰富的半导体设备专家，形成了成熟的研发和工程技术团队。
2018年，公司研发人员占员工总数39.6%；与此同时，公司人均收入再创新高，达到万元，同比增长15.5%。
2018年，公司成功完成再融资发行，募集资金约82亿元。
这是继2018年科创板上市后，有力支撑公司快速发展的又一里程碑事件。
公司不断提高研发投入的强度和效率，有效保障了公司在技术创新、高水平研发团队建设、科学合规运营、国内外业务拓展、领先客户服务支持等方面的质量，并不断提升公司的综合竞争力，为后续快速发展所需的产品、技术、运营能力等方面积累了重要储备。
募集资金到位后，公司加快南昌研发生产基地和上海临港产业化基地建设。
未来两年，中微电子将完成比现有面积十倍以上的工厂建设，进一步扩大高端装备产能，提升公司研发能力和技术创新水平，奠定为实现高速稳定安全发展奠定坚实基础。
。
拥有南昌约14万平方米的研发生产基地（图左）、上海临港新区约18万平方米的研发生产基地以及约10万平方米的总部大楼（图右） ）。
筑牢发展基础，打造具有国际竞争力的平台企业。
作为国内高端微加工装备龙头企业，除了利用募集资金加速技术创新、提升产业规模外，整合产业链上下游及相关资源是中国发展的关键。
微型公司的另一个焦点。
中微希望充分发挥行业影响力和集聚力量，积极推动一批国内外领先的半导体装备、材料及关键零部件配套企业协同发展，共同打造企业创新联盟，逐步形成产业集群。
在保持快速发展的道路上，中国微波集团公司积极践行企业社会责任，通过不断的探索和实践，助力国家“双碳”目标的实现。
2020年4月，中国微波集团发布首份《ESG环境、社会及治理报告》，全面展示了中国微波在提升产品质量和服务、完善治理机制、履行社会责任、保护环境等方面的一系列举措和成果。
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上市三周年也标志着中微进入新的成长阶段。
公司坚决推行科学的管理和运营体系，不断提高企业运营质量，坚持以“四个十”为中心，采用“产品开发十项原则”、“战略销售十项原则”、“运营管理十大原则”。
“大规矩”“十大精神文化风格”的产业推广和对外输出，与国内外合作伙伴共同实现技术进步，共同推动半导体产业快速发展。
未来，中微将继续瞄准世界科技前沿，持续实施立体化发展战略，深耕集成电路关键装备领域，拓展在泛半导体关键装备领域的应用，并积极开拓其他新兴领域，将中微建设成为国际知名企业。
具有竞争力的平台型企业集团，以其“硬科技”实力，为我国加快建设科技强国、实现高水平科技发展做出贡献。
关于中微半导体设备（上海）有限公司中微半导体设备（上海）有限公司（股票简称：中微，股票代码：12）致力于为全球集成电路和LED芯片制造商提供领先的加工设备。
和工艺技术解决方案。
中国微电子公司研制的等离子刻蚀设备和化学薄膜设备是制造各种微型器件的关键设备，可对各种器件进行微米、纳米尺度的加工。
这些微型设备是现代数字产业的基础，它们正在改变人类的生产方式和生活方式。
中微的等离子刻蚀设备在65纳米到5纳米及更先进工艺的众多刻蚀应用中已被国际一线客户广泛使用。
中微开发了用于生产LED和功率器件外延片的MOCVD设备。
已在客户产线上投入量产，目前在全球氮化镓基LED MOCVD设备市场占据领先地位。
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