YoleGroup 英特尔代工厂已接收并组装了业界首个高数值孔径(高NA)极紫外(EUV)光刻系统。
新器件为下一代处理器提供了显着更高的分辨率和功能扩展,使英特尔代工厂能够继续超越英特尔的 18A 工艺领先地位。
高数值孔径EUV是ASML与英特尔数十年合作后开发的下一代光刻系统。

作为高数值孔径 EUV 领域的先驱,英特尔代工厂将能够在芯片制造方面提供前所未有的精度和可扩展性。
反过来,这将使英特尔能够开发具有最具创新特性和功能的芯片,这些处理器对于推动人工智能和其他新兴技术的进步至关重要。
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