正邦科技出资6.99亿元设立总规模10亿元的投资基金
06-18
近日，有网络媒体称，“中微自主研发的5纳米等离子刻蚀机性能优异，将应用于全球首条“5纳米芯片生产线”，并评价“中国芯片生产技术终于突破欧美封锁，首次占领世界制高点”、“中国正在反超”中微的刻蚀机确实是顶尖的，但夸大其战略意义却遭到了相关专家的反对。
刻蚀只是芯片制造的众多环节之一，刻蚀机并不是禁止使用的设备卖到中国，从这个意义上讲，它不被认为是“卡壳”，首先，外行人很容易混淆“光刻机”和“蚀刻机”。
蚀刻机是一种雕刻机。
前者在硅片上投影出详细的电路图（就像相机感光胶片一样），后者根据这个图划出线条（就像刻印章、蚀刻并去除不需要的部分）。
光刻机是芯片制造中使用的最昂贵的机器。
想要达到5纳米的曝光精度是极其困难的。
ASML是唯一一家专门生产高端光刻机的公司。
不过，蚀刻机并没有那么难，AMEC的竞争对手还是有的。
有应用材料、泛林、东京电子等，国外巨头规模优势明显。
“亚马逊的等离子刻蚀机近年来确实取得了长足的进步。
”一位离子刻蚀专家接受科技日报记者采访时表示。
“但目前刻蚀机的精度已经远远超过了光刻机的曝光精度；在芯片制造过程中，蚀刻精度不再是最大的问题。
更困难的是保证大面积晶圆上刻蚀的一致性。
”专家解释道，难点在于如何使电场能量和刻蚀气体均匀分布在刻蚀衬底表面，保证等离子体中的有效元素，并在晶圆表面的每个位置都达到相同的刻蚀效果这需要综合材料学、流体力学、电磁学和真空等离子体学知识。
专家表示：“蚀刻机的结构设计和材料选择更加合理，可以保证电场的均匀分布。
蚀刻气体的供给方式也是关键之一。
据我了解，中微电子尹志耀博士团队在喷淋板方面投入了大量的精力，包括电源、真空系统、刻蚀温度控制等，这些都影响刻蚀结果。
”此外，专家还指出，刻蚀机技术有很多种，其中包括中微电子及其技术。
原理非常不同。
至于更详细的技术细节，则是各个厂商的核心机密。
顺便说一句：蚀刻分为湿法（古人知道如何使用强酸蚀刻金属，现代工艺使用氟化氢蚀刻二氧化硅）和干法（例如在真空中使用氩等离子体处理硅片） 。
“湿法出现较早，一般用于低端产品。
干法一般有能量束刻蚀、离子束、电子束、激光束等，精度高，无污染残留。
等离子刻蚀用于芯片制造”专家说。
上述专家称赞，尹博士和中微的核心技术团队基本来自国际知名半导体设备厂商。
尹博士在国外取得了多项技术成果。
中微不断完善和提高，在芯片刻蚀机领域逐渐保持了与国外几乎同步的技术水平。
在IC行业工作多年的电子工程师张光华告诉科技日报记者：“一两年前，网上有报道称中微半导体研发出了5纳米刻蚀机。
如果能在台积电应用，确实??意味着中微已经达到了世界领先水平，但他表示，中国芯片的“弯道超车”有些夸张，“硅晶圆从设计到制造再到封装测试的流程。
”工艺复杂，包括铸锭制造、晶圆切割、镀膜、光子学等。
雕刻、掺杂、测试等都需要复杂的技术。
中国在大部分工艺上都落后。
”张光华说，“而且中微只向台积电这样的制造企业提供设备，产值比台积电低几个数量级。
《科技报》记者发现，今年以来，“5纳米刻蚀机”在网络上频频炒作，中微电子也多次抗议媒体为他们“高帽子”。
“把行业发展上升到政治层面，更别说让一些记者和媒体做出引人??注目的虚假报道。
”尹志耀年说，“针对我和中微的夸张宣传，让我们非常被动……” ，用新名字来出版确实让我们很头疼。
”科技日报。
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