月销量过亿,依然被嘲笑,光腿神器是怎样炼成的?
06-17
据韩媒TheKorea EconomicDaily全球版报道,韩国芯片厂商预计将减少EUV工艺核心溶剂进口,因为本土企业已经成功批量生产了该材料。
业内消息人士称,石化和电子材料制造商 Jaewon Industrial Co. 已将丙二醇甲醚乙酸酯 (PGMEA) 商业化,这是一种半导体行业常用的硅晶圆表面应用溶剂。
粘合剂。
Jaewon表示,该公司是第一家大规模生产PGMEA的韩国公司,尽管有些公司已经成功开发了这种溶剂。
PGMEA由半导体中使用的稀释剂制成,用于清洁EUV曝光期间不发生EUV光敏反应的部件上的光刻胶。
当在曝光过程之前将溶剂施加到晶圆上时,溶剂还有助于以较小的量均匀地分布感光材料。
通过 EUV 工艺制造的半导体具有非常精细的电路,因此非常小的杂质会降低产量。
EUV工艺要求PGMEA纯度达到99.0%或更高。
日本大赛璐公司等厂商在生产这种纯PGMEA方面一直占据主导地位,而此前韩国公司拥有的技术只是提高了PGMEA的纯度,而不是将丙二醇单甲醚(PGME)合成为PGMEA。
Jaewon 开发了自己的 PGMEA 合成技术。
公司去年将PGMEA产能扩大至3万吨,实现规模化生产。

该公司预计韩国芯片制造商将在今年上半年开始将其 PGMEA 用于 EUV 工艺,从而每年减少约 1 亿韩元(10,000 美元)的溶剂进口。
一位公司消息人士称,成立于2009年的Jaewon将考虑在美国生产PGMEA,并将在美国建立电池材料工厂。
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