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06-06
新闻链接：南大光电：已建成2条ArF光刻胶生产线 观察者网 在昨日A股市场的反弹中，半导体概念掀起热潮。
其中，光刻胶指数大涨近10%，领跑各板块。
光刻胶股中，南大光电收涨20%，晶瑞股份收涨14%，上海新阳收涨11%。
昨日下午收盘后，南大光电宣布，公司承担的国家02专项ArF光刻胶项目通过专家组验收。
该光刻胶可用于90nm-14nm甚至7nm技术节点的集成电路制造工艺，并已完成。
工业基地年产25吨。
不过，南大光电也警告风险，称ArF光刻胶产品尚未实现规模化量产。
ArF光刻胶的复杂性决定了其在稳定量产阶段仍存在不少工艺风险。
能否获得下游客户大批量订单、能否大规模进入市场，仍存在诸多不确定性。
今日（7月30日）南大光电高开逾1%，随后快速上涨。
截至发稿，涨幅扩大至14.21%，市值达1亿元。
（文/吕东）7月29日A股板块大涨。
7月29日，南大光电公告称，公司作为牵头单位承担国家科技重大专项（专项02）“超大规模集成电路制造装备及“成套工艺”“先进光刻胶产品开发及产业化”项目获得超大规模集成电路制造装备及成套工艺实践管理办公室出具的项目综合性能评价结论函，项目通过专家评审在集成电路制造领域，不同波长光源的光刻机需要搭配相应波长的光刻胶进行光刻，目前半导体光刻胶最常见的是按曝光波长分类，主要是g线、i线。
线、KrF、ArF和最先进的EUV（极紫外）光刻胶。
其中DUV（深紫外）光刻机分为干法和浸没式，因此ArF光刻胶也分为干法和浸没式。
更先进的工艺需要使用具有更短曝光波长的光刻胶来实现特征尺寸的小型化。
公告称，南大光电承担的02特种光刻胶项目总体目标是开发高端集成电路制造全套ArF干式、浸式光刻胶工艺技术，形成规模化生产能力；构建与国际先进水平的集成电路产业体系 拥有一批技术和管理人才，建立了完整的技术开发、生产运营、质量管理、市场开发运营体系和知识产权体系对应ArF光刻胶产业的自主发展。
该项目分为三个子主题。
其中，南大光电控股子公司宁波南大光电材料有限公司（以下简称：宁波南大光电）承担的项目名称为：ArF光刻胶产品开发及产业化（项目编号：ZX） 。
本子课题主要开展以下方面的研究： 1. ArF光刻胶产品配方及工艺开发； 2、配方关键成分材料开发； 3、ArF光刻胶产品及关键零部件分析测试能力研究； 4、ArF光刻胶产业化研究。
公告提到，ArF光刻胶材料可用于90nm-14nm甚至7nm技术节点的集成电路制造工艺，广泛应用于高端芯片制造（如逻辑芯片、存储芯片、AI芯片、5G芯片和云计算芯片等）。
长期以来，国内高端光刻胶市场被国外巨头垄断，这给国内芯片制造带来了“卡壳”风险。
尽快实现先进光刻胶材料的全面国产化和产业化，具有非常重要的战略意义和经济价值。
南大光电表示，在项目验收过程中，专家组听取了公司项目任务完成情况和财务执行情况的汇报、现场测试组的测试报告、用户报告、审核报告和预算调整申请报告，等，按照相关规定执行。
检查收集档案资料后，经过询问和讨论，一致认定该项目完成了任务合同规定的各项考核指标。
专家组一致同意该项目通过绩效评价验收。
验收专家组认为： 1、光刻胶是集成电路生产过程中的关键材料。
通过该项目的实施，掌握了ArF干式和浸没式系列光刻胶产品的原料制备、胶水配制、分析测试、应用等。
验证等关键技术，知识产权、人才培养等方面取得重要进展。
组建了由51人组成的ArF光刻胶研发和生产管理团队，建立了ArF光刻胶产品（包括干式和浸式）质量控制平台，年产干式ArF光刻胶5吨，年产量容量5吨。
一条20吨浸没式ArF光刻胶工业生产线；建立与科研经费管理相关的财务制度并能有效实施；申请专利91项，其中国内发明专利81项，国际发明专利4项，实用新型专利6项（已授权），制定团体标准3项，开发新产品2项；实现ArF光刻胶产品销售，完成任务合同规定的主要考核指标。
这是我国集成电路关键材料自主创新的重要成果。
2、宁波南大光电已建成年产25吨的ArF光刻胶产业基地，并具备进一步扩大生产的能力。
建议抓住机遇，尽快扩大生产。
南大光电表示，该项目研发任务的完成预计将对公司光刻胶业务的未来发展产生积极影响。
但公告也警告风险，称ArF光刻胶产品尚未实现规模化量产。
ArF光刻胶的复杂性决定了其在稳定量产阶段仍存在不少工艺风险。
不仅需要技术研究，更需要在应用中改进和完善工艺。
同时，ArF光刻胶产品的国产替代受到严格的质量和客户要求的影响。
能否获得下游客户的大批量订单、能否大规模进入市场，还存在很大的不确定性。
这些都会影响ArF光刻胶的量产规模和经济效益。
目前，全球半导体光刻胶市场主要被日本企业高度垄断，且在高端市场垄断地位更加明显。
目前，全球领先的半导体光刻胶生产商有TOK（东京安佳）、信越化学、JSR（日本合成橡胶）、住友化学、富士胶片等日本公司和美国陶氏化学。
这些龙头企业合计占胶水细分市场85%以上的市场份额，其中日本龙头企业在各细分领域占据主导地位。
最先进的EUV光刻胶领域完全由日本企业主导。
日本JSR、TOK、信越化学成为EUV光刻胶市场上唯一实现量产的厂商。
全球光刻胶市场格局 华泰证券11月研报截图 今年5月，南大光电在业绩说明会上透露，公司ArF光刻胶性能达到日本产品同等水平，实现了ArF光刻胶国产化，打破了日本公司ArF光刻胶国产化的局面。
长期被国外垄断的被动局面。
获得国内光刻胶首单订单并实现小批量销售。
“质检用的光刻机等测量设备都是从国外进口的，我们都配备了，运行良好，不用担心被卡住。
主要原材料都是我们自己研发生产的，不存在风险。
”生产设备是与国内企业联合开发的，不存在被卡的风险。
” 2017年，南大光电营收5.95亿元，同比增长85.13%；净利润8700万元，同比增长58.18%；扣除非净利润10000元；研发投入2.3亿元（含资本化部分）同比增加。
54%，占营收的38.98%。
从财报来看，光刻胶项目尚未为南大光电贡献营收。
公司主要收入来自MO源产品和特种气体产品。
财报显示，MO源系列产品是制备LED、新一代太阳能电池、相变存储器、半导体激光器、射频集成电路芯片等的核心原材料，在半导体照明领域发挥着极其重要的作用、信息通讯、航空航天等领域。
电子特种气体是“集成电路、平板显示器件、化合物半导体器件、LED、太阳能电池、光纤等电子工业生产中不可缺少的基础材料和支撑材料”。
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