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上海新阳：公司光刻胶ArF、ArF-i研发进展顺利

发布于：2024-06-06 编辑：匿名来源：网络

证券时报上海新阳近日在业绩说明会上表示，公司光刻胶ArF、ArF-i研发进展顺利并已形成两个A系列的测试产品，样品已进入客户进行测试。

由于测试时间比较长，近期不会有销售，但是产品的整体技术指标还是比较好的，我们现在在这方面还是比较有信心的。

此外，公司2018年已完成多款KrF光刻胶产品的研发、验证和销售，手头订单包括国内主流芯片制造公司等大小客户，涵盖铝线工艺和铜线工艺，用于逻辑、模拟和其他芯片的制造。

近期会议将于7月5日举行，由ACT雅士国际商报主办。

《半导体芯科技》CHIP中国研讨会将在苏州洲际酒店隆重举行！届时，行业专家将齐聚苏州，与您一起探讨半导体制造行业。

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