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应用材料公司推出基于大数据和人工智能的工艺控制“新策略”

发布于:2024-06-06 编辑:匿名 来源:网络

■ 全新Enlight?光学晶圆检测系统将突破性性能与全新光学技术相结合,捕捉每片晶圆上更多的良率数据; ■ ExtractAI?技术依靠人工智能快速分类缺陷,从而降低良率并消除噪音; ■ 这一应用材料公司历史上增长最快的检测系统可以帮助客户加快工艺节点进度,加快大规模量产的量产时间并保持较高的良率。

2020年3月16日,应用材料公司宣布了工艺控制方面的重大创新。

基于大数据和人工智能技术,这一创新可以帮助半导体制造商加快节点进度,加快盈利时间,并在整个技术节点生命周期内实现盈利。

创造更多利润。

半导体技术变得越来越复杂和昂贵,缩短先进技术节点开发和提高产能所需的时间对于全球芯片制造商来说价值数十亿美元。

随着线宽不断缩小,曾经无害的微小颗粒变成了影响良率的缺陷,使得检测和缺陷校正变得越来越困难。

处理这个问题的能力是成功的关键。

同样,3D晶体管的形成和多种工艺技术带来了微妙的变化,使缺陷成倍增加,从而降低了良率。

解决这些麻烦且耗时的缺陷是这项技术研究的核心。

应用材料公司正在利用其流程控制的“新战略”,将大数据和人工智能技术的优势融入芯片制造技术的核心,以应对这些挑战。

该解决方案由三个组件组成,它们实时协同工作,比传统方法更快、更准确、更经济高效地发现缺陷并进行分类。

这三个部分是: ■ 新型Enlight? 光学晶圆检测系统:经过五年的开发,Enlight 系统结合了行业领先的检测速度、高分辨率和先进的光学技术,每次扫描可以收集更多对,从而产生重要数据。

Enlight系统架构提高了光学检测的经济效率,与其他类似检测方法相比,捕获每个晶圆关键缺陷的成本降低了三倍。

通过显着的成本优化,Enlight 系统使芯片制造商能够在工艺流程中添加更多的检测点。

由此产生的大数据可用性增强了“在线监控”,这是一种统计过程控制方法,可以在良率偏差发生之前进行预测,立即检测偏差并停止晶圆加工以确保良率。

,同时快速追踪缺陷的根本原因,快速纠正并继续批量生产。

Enlight?光学晶圆检测系统结合了业界领先的检测速度和高性能光学技术,在捕获和降低良率缺陷成本方面实现了突破。

■ 全新ExtractAI? 技术:ExtractAI 技术由应用材料公司数据科学家开发,可解决最棘手的晶圆检测问题:快速有效地消除高端光学扫描仪产生的数百万个不需要的信号或“噪声”。

准确识别影响良率的缺陷。

ExtractAI技术是业界独特的解决方案,它将光学检测系统生成的大数据实时连接到电子束检测系统,该系统可以对特定良率信号进行分类,推断Enlight系统解析所有晶圆图信号,将导致良率下降的缺陷与噪音。

ExtractAI 技术非常高效,只需检测 0.% 的样本即可表征晶圆缺陷图上的所有潜在缺陷。

通过这种方式,我们可以获得分类缺陷晶圆的作业图,可以有效提高半导体节点的开发速度、爬坡度和良率。

人工智能技术能够适应并快速识别量产过程中的新缺陷,其性能和效率随着扫描晶圆数量的增加而逐渐提高。

■ SEMVision? 电子束检测系统:SEMVision 系统是世界上最先进、应用最广泛的采用电子束检测技术的设备。

基于行业领先的分辨率,SEMVision系统通过ExtractAI技术训练Enlight系统,对降低良率的缺陷进行分类,并将其与噪声区分开来。

Enlight系统、ExtractAI技术和SEMVision系统的实时协同工作可以帮助客户识别制造过程中的新缺陷,从而提高良率和利润。

大量安装的SEMVision G7系统已经与新的Enlight系统和ExtractAI技术兼容。

AMAT过程控制“新战略”引入大数据和人工智能技术,这是芯片制造成功的核心。

新的ExtractAl?技术是这一创新的关键:它实时连接Enlight?光学检测系统和SEMVision?电子束检测系统生成的大数据,自动、灵活地发现和修复影响良率的缺陷。

与传统方法相比,该解决方案更快、更高效、更节省成本。

VLSIresearch 董事长兼首席执行官 Dan Hutchison 表示:“30 多年来,晶圆厂工程师一直在努力解决如何快速准确地区分降低良率的缺陷和噪声的问题。

”应用材料公司采用 ExtractAI 技术的 Enlight 系统是解决这一挑战的突破性产品。

因为系统使用得越多,它就会变得越智能,随着时间的推移,它可以增加芯片制造商每片晶圆的利润。

“应用材料公司的过程控制新战略融合了大数据和人工智能,提供智能、自适应的全面解决方案,可以帮助客户节省时间并最大限度地提高产量。

将应用材料公司一流的光学检测和电子束检测相结合技术方面,我们推出了行业独有的智能解决方案,不仅可以检测和分类导致良率下降的缺陷,还可以实时学习和适应工艺变化,这一独特功能使芯片制造商能够更快地应对新技术节点的提升时间。

在整个工艺生命周期中有效捕获导致产量下降的缺陷。

“采用 ExtractAI 技术的全新 Enlight 系统是应用材料公司历史上发展最快的检测系统。

该产品已用于全球领先代工厂客户的逻辑节点生产。

20 多年来,SEMVision 系统一直处于行业领先地位。

关于应用材料公司 应用材料公司(纳斯达克股票代码:AMAT)是为全球几乎所有新公司提供材料工程解决方案的领导者。

应用材料公司是我们生产的芯片和先进显示器的幕后推手。

应用材料公司推出基于大数据和人工智能的工艺控制“新策略”

应用材料公司凭借能够在原子水平上大规模改造材料的技术,帮助我们的客户实现无限可能。

应用材料公司推出基于大数据和人工智能的工艺控制“新策略”

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