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据《Expertise》报道,日本 JSR 收购美国领先的 EUV 光刻胶供应商

发布于:2024-06-08 编辑:匿名 来源:网络

日本半导体材料制造商 JSR 周五表示,将收购总部位于俄勒冈州的 Inpria,着眼于后者在尖端芯片制造化学品方面的专业知识。

据相关报道,2018年和2018年,JSR参与了Inpria的融资,并拥有该公司21%的流通股。

通过本次交易,JSR将收购剩余股份,Inpria将成为JSR公司的全资子公司。

此次收购的执行须满足多项条件,包括获得监管部门的批准,预计将于 10 月底完成。

JSR首席执行官埃里克·约翰逊周五在网上告诉记者,他打算让Inpria在本财年实现盈利。

JSR 已运营 60 多年,生产各种功能材料,最近将其业务和未来扩张重点放在数字解决方案上,其中包括半导体材料和生命科学业务,这两项业务均旨在推动增长,非常适合利用公司的技术创新优势。

JSR 计划利用数十年在大批量制造、质量控制、供应商管理和客户参与方面的经验,进一步加强其支持和支持 IC 行业的能力。

Inpria自2016年成立以来一直致力于开发金属基EUV光刻胶,其主要产品主要由氧化锡组成,并采用EUV曝光系统实现了全球最高分辨率。

此外,金属基光刻胶在干法刻蚀过程中的图案转移性能方面优于传统光刻胶,使其非常适合半导体量产工艺。

此次收购完成后,JSR 将把 Inpria 的金属基光刻胶添加到 JSR 的光刻胶产品组合中,作为一家支持客户当前和未来技术的先进材料公司,无缝地提供价值。

JSR 董事总经理 Tadahiro Suhara 表示:“芯片制造商非常重视 Inpria 的技术,我认为我们正走在一条充满希望的盈利之路上。

” Inpria 在光刻胶领域享有盛誉,包括用于极紫外光刻的光刻胶。

光致抗蚀剂用于在硅晶片上印刷电路。

据《Expertise》报道,日本 JSR 收购美国领先的 EUV 光刻胶供应商

随着半导体变得越来越小,芯片制造商一直需要更复杂的产品。

JSR 还希望利用 Inpria 的金属氧化物光刻胶技术,该技术专为生产下一代半导体而设计。

JSR等日本企业在光刻胶领域占据全球约90%的份额。

Johnson 表示,未来十年全球光刻胶市场将翻一番,并补充说,持续积极的投资将是 JSR 保持技术优势的关键。

日本JSR:日本合成橡胶公司(JSR)是全球ArF光刻胶的领导者,成立于2011年,专注于四大主营业务:合成橡胶(占营收的38%)、数字解决方案(31%)、塑料(20%)生命科学(11%),其中数字化解决方案涵盖光刻材料、化学机械抛光CMP材料等。

目前公司光刻胶全球市场份额为13%(其中ArF光刻胶排名第一)。

公司本财年营收和净利润复合增长率分别为3.9%和12.7%。

本财年综合毛利率近30%,净利润率近5%,公司研发投入占营收的5%。

自20世纪90年代以来,JSR将重点放在电子产品材料和半导体材料上。

先后在北美、欧洲、韩国、台湾、中国等地区设立光刻胶和平面材料工厂,并逐步推出新产品。

一代光刻胶产品。

进入21世纪后,JSR的光刻胶技术取得了进一步的突破。

2016年,通过沉浸式ArF首次实现32nm分辨率; 2016年与IBM合作实现30nm线宽。

2007年,JSR与SEMATECH联合开发15nm工艺的EUV光刻胶; 2007年,JSR与IMEC签署合作意向书,并于次年成立合资公司(EUVRMQC),进一步推进公司的EUV光刻胶研发进程。

JSR的光刻胶业务市场占有率长期位居全球前列。

截至年底,该公司在全球光刻胶领域的市场份额约为13%,排名第三,仅次于KrF光刻胶龙头东京英化(27%)和EUV光刻胶龙头美国陶氏化学(27%) 。

17%)。

在ArF光刻胶市场,JSR全球市场份额约为24%,排名第一;在KrF光刻胶市场,JSR的全球市场份额约为18%,排名第三。

市场占有率高达90%,日本继续重点发展EUV光刻胶。

在光刻胶领域,日本是全球领先的制造商,尤其是在EUV光刻胶方面,他们的市场份额高达90%,但他们似乎并没有放缓脚步。

据《日经新闻》报道,富士胶片控股和住友化学最早将于2020年开始为下一代芯片制造提供材料,这将有助于智能手机和其他设备向更小、更节能的设备发展。

报道进一步指出,富士胶片正投资45亿日元(合4万美元)装备其位于东京西南部静冈县的生产工厂,最早将于明年开始量产。

该公司表示,该产品的残留物更少,从而减少了有缺陷的芯片。

同时,住友化学将在本财年向位于大阪的工厂提供从开发到生产的全套光刻胶生产能力。

由于市场强劲,该公司已签订临时协议,向大型制造商供应产品。

日经新闻最新报道指出,日本信越化学工业株式会社将斥资约1亿日元(2.85亿美元),将半导体工厂重要材料光刻胶的产能提高20% ,并将首次在台湾生产,以提供先进的芯片生产扩大供应。

信越化学将在日本和台湾投资购买新的光刻胶生产设备。

这种材料用于在硅晶片上形成电路图案。

随着半导体材料领域的竞争加剧以及5G设备、数据中心和其他应用中使用的芯片的需求不断增长,日本领先的光刻胶制造商信越化学正在提高产能。

《日经新闻》报道称,信越化学位于台湾的云林工厂将于今年 2 月左右率先增加产能。

届时,信越化学将开始在台湾生产适合先进极紫外(EUV)光刻技术的光刻胶。

过去,这种材料仅在日本生产。

信越化学希望此举能够满足台积电等客户不断增长的需求。

在日本,信越化学位于新泻县直江津工厂的新设备计划于今年二月开始运行。

台湾产能将增加50%,直江津工厂将增加20%。

员工人数也将扩大。

信越化学还将为韩国、中国大陆和其他市场的客户增加产量。

日本其他主要光刻胶制造商,包括JSR和东京Oika工业公司,也在日本和海外生产EUV光刻胶,而住友化学和富士胶片也准备进入这一领域。

据《Expertise》报道,日本 JSR 收购美国领先的 EUV 光刻胶供应商

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