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中芯国际斥资11亿美元采购工艺设备用于建设14纳米产线

发布于：2024-06-06 编辑：匿名来源：网络

此前2月18日，中芯国际宣布，在2020年3月12日至2月17日的12个月内，将（林研）提交采购清单并斥资6.01亿美元（约42亿元人民币）购买工艺设备，其中可能包括公司的三项关键设备，如干法雕刻（RIE/ALE）、沉积（CVD/ALD）以及光刻胶去除和剥离剂清洗设备。

不过，这只是中芯国际建设14纳米生产线的部分设备清单。

自去年底宣布14nm产线竣工以来，扩大14nm产线月产能已成为公司乃至中国芯片制造业的当务之急。

据中芯国际联席CEO梁孟松透露，14nm（包括改进的12nm工艺）月产能将在今年3月达到4K，7月达到9K，12月达到15K。

此后，产能将不再增加，公司将把资源用在新工艺上。

中芯国际斥资11亿美元采购工艺设备用于建设14纳米产线

例如，除了14nm和改进的12nm工艺之外，中芯国际的N代和N代工艺也将在今年年底开始试产，相当于台积电的7nm低功耗和7nm高性能工艺水平。

年会将是产能建设的焦点。

为了实现上述目标，中芯国际再次透露，已斥资11亿美元（约合人民币77亿元）采购应用材料和TEL工艺设备。

其中，应用材料公司的订单于2月11日至18日期间下达，金额为5.43亿美元，而东京电子的采购订单于2018年3月26日至2月28日期间陆续提交，金额为5.51亿美元。

。

目前中芯国际自主研发的14nm虽然可以满足大家的日常需求，但与台积电的7nm相比还是有好几年的差距。

不过，中芯国际近日宣布，在研发7nm的过程中，尚不需要使用EUV光刻机。

事实上，台积电开发的第一代7nm并没有采用EUV光刻机，而是采用了DUV多重曝光技术。

从这一点我们可以看出，中芯国际目前7nm的研发并不需要依赖国外的EUV光刻机。

我们可以另辟蹊径，寻求突破。

中芯国际在研发过程中暂时不需要使用EUV光刻机，但如果要研发7nm，则需要大量资金。

台积电花费近30亿美元研发7纳米。

技术开发出来后，又花费1亿美元建造了代工厂。

因此，研发需要雄厚的经济实力。

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