海富产业基金:十七年PE生涯,勇立潮头
06-17
德国达姆施塔特,2020年7月28日——全球领先科技公司默克近日宣布推出新一代环保精密清洗溶剂产品—— AZ? 去除剂。
该系列产品用于半导体芯片制造图案化过程中去除光刻胶。
光刻胶去除是半导体芯片制造图形化工艺中的关键技术,而光刻胶去除剂是决定图形化最终良率和可靠性的关键材料之一。
默克公司此次推出的“AZ?去除剂”基于一种不含NMP(N-甲基吡咯烷酮)的全新特殊化学配方。

不仅能快速溶解残留光刻胶,而且具有超高的经济性和优异的环保性。
和广泛的适用性。
这种创新产品直接溶解负性和正性光刻胶,而不是像传统的 NMP 清洁剂那样简单地将它们从晶圆表面剥离。
清洗流程因此可以缩短近一半,同时延长相关材料和过滤设备的使用寿命,从而帮助芯片制造商降低总体成本。
默克半导体材料部全球负责人Anand Nambiar表示:“这是一种既环保又经济的创新解决方案,将更好地满足下一代半导体制造工艺中的精密清洁需求。
这款AZ?去除剂可以用不到三倍的溶剂量去除光刻胶,为晶圆厂节省成本,同时也减少废物对环境的影响。
“高纯度去除剂在芯片制造过程中发挥着非常重要的作用。
每当将各种材料转移到硅晶圆上时,都需要精确去除硅晶圆表面上不需要的残留物。
随着芯片制造工艺不断小型化,行业对更高性能、更环保去除剂的需求也不断增加。
默克是全球半导体去除剂市场的重要参与者之一。
其开发的溶剂产品涵盖了半导体光刻工艺的所有步骤。
此外,默克凭借在电子材料领域多年的专业经验,目前为中国大陆多家芯片制造企业供应多种材料产品,涵盖其晶圆加工的各个环节。
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